Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Millimeter thick photoresist process"'
Publikováno v:
Micro and Nano Systems Letters, Vol 8, Iss 1, Pp 1-12 (2020)
Abstract This paper presents a computer-controlled multidirectional UV-LED lithography system for 3-D microfabrication. The presented UV-LED system has adopted adjustable or programmable high-intensity UV-LEDs as a light source enabling for photopatt
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/644cf61d752e4490a6b2ff7777f6bfc6
Publikováno v:
Micro and Nano Systems Letters, Vol 8, Iss 1, Pp 1-12 (2020)
This paper presents a computer-controlled multidirectional UV-LED lithography system for 3-D microfabrication. The presented UV-LED system has adopted adjustable or programmable high-intensity UV-LEDs as a light source enabling for photopatterning bo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::748e4669b846bae7e7648b1b6c09f18a
http://link.springer.com/article/10.1186/s40486-020-00107-y
http://link.springer.com/article/10.1186/s40486-020-00107-y
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.