Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Miesle, Adam"'
Autor:
Miesle, Adam
Development of high permittivity, or high-k dielectrics for ultra-wide bandgap (UWBG) materials, such as B-Ga2O3, is critical to the electric field management in devices made with UWBG semiconductor materials [1]. Typically, high-k dielectrics are de
Autor:
Austin, Drake, Miesle, Paige, Sessions, Deanna, Motala, Michael, Moore, David, Beyer, Griffin, Miesle, Adam, Sarangan, Andrew, Sebastian, Amritanand, Das, Saptarshi, Puthirath, Anand, Zhang, Xiang, Hachtel, Jordan, Ajayan, Pulickel, Back, Tyson, Stevenson, Peter, Brothers, Michael, Kim, Steven, Buskohl, Philip, Rao, Rahul, Muratore, Christopher, Glavin, Nicholas
High throughput characterization and processing techniques are becoming increasingly necessary to navigate multivariable, data-driven design challenges for sensors and electronic devices. For two-dimensional materials, device performance is highly de
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2201.11289
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Islam, Ahmad E., Sepelak, Nicholas P., Miesle, Adam T., Lee, Hanwool, Snure, Michael, Nikodemski, Stefan, Walker, Dennis E., Miller, Nicholas C., Grupen, Matt, Leedy, Kevin D., Liddy, Kyle J., Crespo, Antonio, Hughes, Gary R., Zhu, Wenjuan, Poling, Brian, Tetlak, Stephen, Chabak, Kelson D., Green, Andrew J.
Publikováno v:
IEEE Transactions on Electron Devices; 2024, Vol. 71 Issue: 3 p1805-1811, 7p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Austin, Drake, Miesle, Paige, Sessions, Deanna, Motala, Michael, Moore, David C., Beyer, Griffin, Miesle, Adam, Sarangan, Andrew, Sebastian, Amritanand, Das, Saptarshi, Puthirath, Anand B., Zhang, Xiang, Hachtel, Jordan, Ajayan, Pulickel M., Back, Tyson, Stevenson, Peter R., Brothers, Michael, Kim, Steve S., Buskohl, Philip, Rao, Rahul
Publikováno v:
ACS Applied Nano Materials; 5/27/2022, Vol. 5 Issue 5, p7549-7561, 13p
Autor:
Moore, David C., Jawaid, Ali, Busch, Robert, Brothers, Michael, Miesle, Paige, Miesle, Adam, Rao, Rahul, Lee, Jonghoon, Beagle, Lucas K., Motala, Michael, Wallace, Shay Goff, Downing, Julia R., Roy, Ajit, Muratore, Christopher, Hersam, Mark C., Vaia, Richard, Kim, Steve, Glavin, Nicholas R.
Publikováno v:
Advanced Functional Materials; 3/16/2022, Vol. 32 Issue 12, p1-8, 8p