Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Michael J. Satterfield"'
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
With the growing complexity of I-line and DUV photolithography processes, defect monitoring and yield improvement is becoming more critical and challenging. In addition to product wafer scans, reliable unpatterned wafer scans, with their advantage of
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::e57613fbc71fd1a4ea51dd3cfaacaca3
https://doi.org/10.1117/12.350841
https://doi.org/10.1117/12.350841
Publikováno v:
Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X.
A patterned wafer inspection system using optical pattern filtering (OPF) has been integrated into sub-half micron semiconductor device pilot production lines (125 mm and 200 mm) for the purpose of process defect control. The optical pattern filterin
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::c9f443feffa3f51286cd3ac3a663d857
https://doi.org/10.1117/12.240086
https://doi.org/10.1117/12.240086
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
One of the major sources of particles today is from processing equipment. As die size continues to shrink, more effort needs to be placed in defect detection and elimination. A defect of 1 - 2 microns in size, while barely noticeable 5 years ago, can
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::38bf93f0a9157f1417371d101df740b6
https://doi.org/10.1117/12.186739
https://doi.org/10.1117/12.186739
Publikováno v:
The Journal of the Acoustical Society of America. 115:446
Various methods of inspecting circuit structures are provided. In one aspect, a method of detecting structural defects in a circuit structure is provided. A natural frequency of the circuit structure is determined and the circuit structure is immerse
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::25382a346cb95f27838556c4adbb7f88
https://doi.org/10.1121/1.1669228
https://doi.org/10.1121/1.1669228
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The use of electrical defect monitoring for process control is described. Details are presented of the use of fast cycle time short flow snake lots for metal and poly processes in an advanced CMOS pilot production line. Contributions to defectivity f
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f60c5acdffdfbc3bcdfcd3d7c39fe79f
https://doi.org/10.1117/12.953082
https://doi.org/10.1117/12.953082
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.