Výsledky vyhledávání - "Miao, Xiangqun"

Conference

Double patterning combined with shrink technique to extend ArF lithography for contact holes to 22nm node and beyond.

Autor: Miao, Xiangqun, Huli, Lior, Chen, Hao, Xu, Xumou, Woo, Hyungje, Bencher, Chris, Shu, Jen, Ngai, Chris, Borst, Christopher

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2008 Part 2, Issue 1, p69240A-69240A-8, 8p

Zobrazit plný text záznamu

Conference

RET application in 45-nm node and 32-nm node contact hole dry ArF lithography process development.

Autor: Miao, Xiangqun, Xu, Xumou, Chen, Yongmei, Ordonio, Chris, Bencher, Chris, Ngai, Chris

Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2007 Part 2, Issue 1, p65201F-65201F-9, 9p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Production of Polyethersulfone Hollow Fiber Ultrafiltration Membranes. II. Effects of Fiber Extrusion Pressure (EP) and PVP Concentration in the Spinning Solution.

Autor: Miao, Xiangqun, Sourirajan, S., Lau, Wayne W. Y.

Publikováno v: Separation Science & Technology; Feb1996, Vol. 31 Issue 3, p327-348, 22p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Production of Polyethersulfone Hollow Fiber Ultrafiltration Membranes. I. Effects of Water (internal coagulant) Flow Rate (WFR) and Length of Air Gap (LAG).

Autor: Miao, Xiangqun, Sourirajan, S., Zhang, H., Lau, Wayne W. Y.

Publikováno v: Separation Science & Technology; Jan1996, Vol. 31 Issue 2, p141-172, 32p

Zobrazit plný text záznamu