Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Masatoshi Egawa"'
Autor:
Katsuzo Koizumi, Hiromu Masuda, Seiichi Mizushita, Nobuyuki Sugiura, Yoshihiro Nishida, Yoshihide Nakamura, Masafumi Uchiyama, Nobuyoshi Takeuchi, Kazufumi Taniguchi, Manabu Tatara, Masatoshi Egawa, Shohei Matsubara, Toshiso Kosako
Publikováno v:
Japanese Journal of Health Physics. 29:217-228
Autor:
Masatoshi Egawa, Hideaki Ikoma
Publikováno v:
Japanese Journal of Applied Physics. 33:943
Oxidation of the Si surfaces treated in various solvents after HF etching was investigated by means of the Schottky diode characteristics and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The solvents employed were deionized water, ethanol ( C2H5OH), trich
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.