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Publikováno v:
Journal of Integrated Circuits and Systems. 1:26-30
In this work we study the nitrogen n-type electrical doping of a-Si 0.5 C 0.5 :H films obtained by plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) utilizing and comparing two doping techniques: in-situ (during the material growth) and ion implantat
Autor:
Juan Matheus Munoz, Giovana Fontanella Pileggi, Mariana Penteado Nucci, Arielly da Hora Alves, Flavia Pedrini, Nicole Mastandrea Ennes do Valle, Javier Bustamante Mamani, Fernando Anselmo de Oliveira, Alexandre Tavares Lopes, Marcelo Nelson Páez Carreño, Lionel Fernel Gamarra
Publikováno v:
Pharmaceutics, Vol 16, Iss 9, p 1156 (2024)
Glioblastoma multiforme (GBM) is the most severe form of brain cancer in adults, characterized by its complex vascular network that contributes to resistance to conventional therapies. Thermal therapies, such as magnetic hyperthermia (MHT), emerge as
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https://doaj.org/article/ca4725ff701a470eaac1e167d6d78c84
Publikováno v:
Revista Águas Subterrâneas, Vol 0, Iss 0 (2013)
Estudos hidrodinâmicos de contaminantes na zona vadosa são escassos. As limitações inerentes aos ensaios de campo e de laboratório levaram ao desenvolvimento de técnicas de simulação computacional. Dentre elas, o método de Lattice Boltzmann
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https://doaj.org/article/3213fff9ae4a49578b6eab060a544c8e
Autor:
Fábio Belotti Colombo
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Universidade de São Paulo (USP)
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O presente trabalho teve como foco o desenvolvimento de um software para a simulação de processos de microfabricação em substrato e de microfabricação em superfície baseado em autômatos celulares, o simMEMS. Além disso, visando a futura inco
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5d9b7c39f787b2c9cc850d2f006f04d1
https://doi.org/10.11606/d.3.2011.tde-11082011-125646
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Neste trabalho filmes finos de silício amorfo hidrogenado (a-Si:H) foram depositados no reator magnetron sputtering do laboratório de sistemas integráveis (LSI), a temperaturas menores que 100 °C, pela introdução do gás hidrogênio junto com o
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::44ff4f04cffcc8157307a4d38da8c61c
https://doi.org/10.11606/d.3.2010.tde-05122011-151324
https://doi.org/10.11606/d.3.2010.tde-05122011-151324
Autor:
Zaira Mendes da Rocha
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Neste trabalho, foram desenvolvidos MicroLaboratórios Autônomos (MLA), baseados no conceito de MicrosSistemas de Análise Total (TAS), que permitem a integração das etapas associadas ao método analítico em único dispositivo. Os MLA foram fabri
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::e96801ab2d79cf52cf57788cb93566e4
https://doi.org/10.11606/t.3.2009.tde-18122009-125440
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Autor:
Marcia Regina Pereira Attie
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è estuda a cinética de oxidação de filmes finos de cobre e os mecanismos envolvidos em sua passivação através de; implamtação iônica, formação de ligas e utilização de uma camada protetora. Oxidation kinetics and its mechanisms has been
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::1614e91b7c5c5339d29dd90f9f126add
https://doi.org/10.11606/t.43.2008.tde-01092008-154507
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Autor:
José Pinto de, Oliveira Júnior
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Nesse trabalho foi desenvolvido um software para simular a corrosão anisotrópica do silício, tendo como base o comportamento desta corrosão em soluções alcalinas (KOH). Esse software foi escrito na linguagem C++ para diversas plataformas e poss
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::736755af84c9785c73d23ee175e548bc
https://doi.org/10.11606/d.3.2008.tde-06112008-204522
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Autor:
A. R. Oliveira
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Neste trabalho é estudada a viabilidade de produção de dispositivos eletrônicos baseados em filmes semicondutores de carbeto de silício estequiométrico (a-Si0,5C0,5:H) obtidos por deposição química por vapor assistida por plasma, PECVD. A pr
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::fd2e9b943cb4bb80fe9c2bd90caac7f5
https://doi.org/10.11606/t.3.2006.tde-08122006-142624
https://doi.org/10.11606/t.3.2006.tde-08122006-142624
Autor:
Murilo Z. Mielli
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Universidade de São Paulo (USP)
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Este trabalho apresenta o desenvolvimento de um sensor térmico de vazão integrado a um microcanal. Todo o ciclo de desenvolvimento é abordado: conceito, modelagem e simulação, fabricação e caracterização. O sensor é composto por um filament
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https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ec965bee524870b9c626199373d6ce02