Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Marc Staples"'
Autor:
Guoxiang Ning, Frank Richter, Fang Hong Gn, Karin Kurth, Thomas Thamm, Andre Leschok, Paul Ackmann, Marc Staples, Joerg Schenker, Francois Weisbuch
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Reticle critical dimension uniformity (CDU) is an important criterion for the qualification of mask layer processes. Normally, the smaller the three sigma value of reticle CDU is, the better is the reticle CDU performance. For qualification of mask p
Autor:
Frank Richter, Fang Hong Gn, Stefan Roling, Christian Buergel, Marc Staples, Anthony Zhou, Thomas Thamm, Guoxiang Ning, Andre Leschok, Paul Ackmann, Chin Teong Lim
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Dummy pattern fill is added to a layout of a reticle for the purpose of raising the pattern-density of specific regions. The pattern-density has also an influence on different process-steps which were performed when manufacturing a reticle (e.g. prox
Autor:
Marc Staples, Sven Muehle, Wolfgang Demmerle, Anna Maria Minvielle, Bernd Schulz, Rolf Seltmann
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
According to the SIA roadmap an overlay of 65nm is necessary for state of the art 0.18micrometers processes. To meet such tight requirements it is necessary to know the magnitude of all contributions, to understand possible interactions and to try to
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.