Zobrazeno 1 - 2 of 2 pro vyhledávání: '"Mangyou, H."'
1
Conference
Application of Atmospheric Plasma Abatement System for Exhausted Gas from MEMS Etching Process.
Autor: Hattori, K., Sakurai, K., Watanabe, N., Mangyou, H., Hasaka, S., Shibuya, K.
Publikováno v: 2006 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing; 2006, p39-42, 4p
Zobrazit plný text záznamu
2
Conference
High performance atmospheric plasma abatement system for PFC reduction.
Autor: Mangyou, H., Watanabe, N., Hattori, K., Watanabe, T., Sugimori, Y., Shibuya, K., Hasaka, S.
Publikováno v: ISSM 2005, IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing, 2005; 2005, p263-266, 4p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje