Zobrazeno 1 - 10 of 40 pro vyhledávání: '"Malyshev, M. V."'
1
Akademický článek
Diagnostics of inductively coupled chlorine plasmas: Measurement of Cl[sub 2] and Cl number densities.
Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 12/1/2000, Vol. 88 Issue 11, p6207, 9p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Diagnostics of chlorine inductively coupled plasmas. Measurement of electron temperatures and...
Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 2/15/2000, Vol. 87 Issue 4, p1642, 8p, 1 Diagram, 1 Chart, 10 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Dynamics of pulsed-power chlorine plasmas.
Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 11/1/1999, Vol. 86 Issue 9, p4813, 8p, 1 Diagram, 11 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Dynamics of inductively-coupled pulsed chlorine plasmas in the presence of continuous substrate bias.
Autor: Malyshev, M V, Donnelly, V M
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; 2000, Vol. 9 Issue 3, p353-360, 8p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Characterization of transformer coupled oxygen plasmas by trace rare gases-optical emission spectroscopy and Langmuir probe analysis.
Autor: Fuller, N C M, Malyshev, M V, Donnelly, V M, Herman, Irving P
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; 2000, Vol. 9 Issue 2, p116-127, 12p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Diagnostic studies of aluminum etching in an inductively coupled plasma system: Determination of electron temperatures and connections to plasma-induced damage.
Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M., Downey, S. W., Colonell, J. I., Layadi, N.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 3, p849-859, 11p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Role of sidewall scattering in feature profile evolution during Cl2 and HBr plasma etching of silicon.
Autor: Vyvoda, M. A., Li, M., Graves, D. B., Lee, H., Malyshev, M. V., Klemens, F. P., Lee, J. T. C., Donnelly, V. M.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2000, Vol. 18 Issue 2, p820-833, 14p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Mask charging and profile evolution during chlorine plasma etching of silicon.
Autor: Bogart, K. H. A., Klemens, F. P., Malyshev, M. V., Colonell, J. I., Donnelly, V. M., Lee, J. T. C., Lane, J. M.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 1, p197-206, 10p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Feature evolution during plasma etching. II. Polycrystalline silicon etching.
Autor: Lane, J. M., Klemens, F. P., Bogart, K. H. A., Malyshev, M. V., Lee, J. T. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 1, p188-196, 9p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Langmuir probe studies of a transformer-coupled plasma, aluminum etcher.
Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M., Kornblit, A., Ciampa, N. A., Colonell, J. I., Lee, J. T. C.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1999, Vol. 17 Issue 2, p480-492, 13p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje