Zobrazeno 1 - 10
of 51
pro vyhledávání: '"Malm, Jari"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ylivaara, Oili M.E., Langner, Andreas, Ek, Satu, Malm, Jari, Julin, Jaakko, Laitinen, Mikko, Ali, Saima, Sintonen, Sakari, Lipsanen, Harri, Sajavaara, Timo, Puurunen, Riikka L.
Publikováno v:
Ylivaara, O M E, Langner, A, Ek, S, Malm, J, Julin, J, Laitinen, M, Ali, S, Sintonen, S, Lipsanen, H, Sajavaara, T & Puurunen, R L 2022, ' Thermomechanical properties of aluminum oxide thin films made by atomic layer deposition ', Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films, vol. 40, no. 6, 062414 . https://doi.org/10.1116/6.0002095
Funding Information: This work was carried out within the MECHALD project funded by Business Finland and is linked to the Finnish Centers of Excellence in Atomic Layer Deposition (Ref. No. 251220) and Nuclear and Accelerator Based Physics (Ref Nos. 2
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::4b9d454ec4784131ade48bffcf454b75
https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/118688
https://aaltodoc.aalto.fi/handle/123456789/118688
Autor:
Ananda Sagari, A.R., Malm, Jari, Laitinen, Mikko, Rahkila, Paavo, Hongqiang, Ma, Putkonen, Matti, Karppinen, Maarit, Whitlow, Harry J., Sajavaara, Timo
Publikováno v:
In Thin Solid Films 15 March 2013 531:26-31
Publikováno v:
In Thin Solid Films 1 June 2011 519(16):5319-5322
Publikováno v:
In Applied Surface Science 2011 257(15):6435-6439
Publikováno v:
In Thermochimica Acta 2009 482(1):17-20
Atomic layer deposition (ALD) was used to grow TixAlyN and TixAlyC thin films using trimethylaluminum (TMA), titanium tetrachloride and ammonia as precursors. Deposition temperature was varied between 325 °C and 500 °C. Films were also annealed in
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______1222::a90821ff2eb21c30a9228702277b095d
http://urn.fi/URN:NBN:fi:jyu-201710254061
http://urn.fi/URN:NBN:fi:jyu-201710254061
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Puurunen, Riikka L., Ali, Saima, Arstila, Kai, Berdova, Maria, Haimi, Eero, Heikkinen, Hannele, Julin, Jaakko, Kilpi, Lauri, Laitinen, Mikko, Liu, Xuwen, Lyytinen, Jussi, Malm, Jari, Pyymaki-Perros, Alexander, Rontu, Ville, Sintonen, Sakari, Ylivaara, Oili, Sajavaara, Timo, Lipsanen, Harri, Franssila, Sami, Koskinen, Jari, Ronkainen, Helena, Hannula, Simo-Pekka, Kiihamäki, Jyrki
Publikováno v:
Puurunen, R L, Ali, S, Arstila, K, Berdova, M, Haimi, E, Heikkinen, H, Julin, J, Kilpi, L, Laitinen, M, Liu, X, Lyytinen, J, Malm, J, Pyymaki-Perros, A, Rontu, V, Sintonen, S, Ylivaara, O, Sajavaara, T, Lipsanen, H, Franssila, S, Koskinen, J, Ronkainen, H, Hannula, S-P & Kiihamäki, J 2015, Mechanical property mapping of ALD thin films . in Technical Program & Abstracts . American Vacuum Society (AVS), 13th International Baltic Conference on Atomic Layer Deposition, Baltic ALD 2015, Tartu, Estonia, 28/09/15 .
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::f68ea465f348978099e21d2bc47f739d
https://cris.vtt.fi/en/publications/d7143751-1332-4e73-8f0b-9a397d66d07e
https://cris.vtt.fi/en/publications/d7143751-1332-4e73-8f0b-9a397d66d07e
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.