Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"MOCVD technology"'
Publikováno v:
Sensors, Vol 23, Iss 12, p 5365 (2023)
The results of magnetoresistance (MR) and resistance relaxation of nanostructured La1−xSrxMnyO3 (LSMO) films with different film thicknesses (60–480 nm) grown on Si/SiO2 substrate by the pulsed-injection MOCVD technique are presented and compared
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/8fc11f502ed24d9bb171e96dff462823
Autor:
Voitech Stankevič, Skirmantas Keršulis, Justas Dilys, Vytautas Bleizgys, Mindaugas Viliūnas, Vilius Vertelis, Andrius Maneikis, Vakaris Rudokas, Valentina Plaušinaitienė, Nerija Žurauskienė
Publikováno v:
Sensors, Vol 23, Iss 3, p 1435 (2023)
A measurement system based on the colossal magnetoresistance CMR-B-scalar sensor was developed for the measurement of short-duration high-amplitude magnetic fields. The system consists of a magnetic field sensor made from thin nanostructured manganit
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/5f5092be813a4a6e8a672e5dd42356e3
Autor:
Nerija Zurauskiene, Voitech Stankevic, Skirmantas Kersulis, Milita Vagner, Valentina Plausinaitiene, Jorunas Dobilas, Remigijus Vasiliauskas, Martynas Skapas, Mykola Koliada, Jaroslaw Pietosa, Andrzej Wisniewski
Publikováno v:
Sensors, Vol 22, Iss 11, p 4004 (2022)
The results of colossal magnetoresistance (CMR) properties of La1-xSrxMnyO3 (LSMO) films grown by the pulsed injection MOCVD technique onto an Al2O3 substrate are presented. The grown films with different Sr (0.05 ≤ x ≤ 0.3) and Mn excess (y > 1)
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/ca93c70b21cc4255b5464b754df445ef
Autor:
Voitech Stankevic, Nerija Zurauskiene, Skirmantas Kersulis, Valentina Plausinaitiene, Rasuole Lukose, Jonas Klimantavicius, Sonata Tolvaišienė, Martynas Skapas, Algirdas Selskis, Saulius Balevicius
Publikováno v:
Sensors, Vol 22, Iss 2, p 605 (2022)
The results of colossal magnetoresistance (CMR) properties of La0.83Sr0.17Mn1.21O3 (LSMO) films grown by pulsed injection MOCVD technique onto various substrates are presented. The films with thicknesses of 360 nm and 60 nm grown on AT-cut single cry
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/5b78fb5641764f86974ecc74e145e009
Publikováno v:
Sensors; Volume 23; Issue 12; Pages: 5365
The results of magnetoresistance (MR) and resistance relaxation of nanostructured La1−xSrxMnyO3 (LSMO) films with different film thicknesses (60–480 nm) grown on Si/SiO2 substrate by the pulsed-injection MOCVD technique are presented and compared
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=multidiscipl::685f6c2b61b3d665be1df8a4bbc3afe5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.