Zobrazeno 1 - 10
of 35
pro vyhledávání: '"M.V. Shibalov"'
Autor:
A.M. Tagachenkov, N. V. Porokhov, M. A. Tarkhov, E.A. Pershina, E. R. Timofeeva, M.V. Shibalov, E.V. Zenova, A.M. Mumlyakov, I.V. Trofimov, Yu. V. Anufriev, Stanislav A. Evlashin, P.A. Nekludova
Publikováno v:
Carbon. 184:698-705
Vertically oriented graphene structures have a high specific surface area which makes them potential candidates for realization of various devices. On their basis, supercapacitors, lithium-ion batteries, absorbing coatings and bolometers, gas and ele
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
E.R. Timofeeva, Andrey Orlov, Electronics. V. A. Kotelnikova Ras, Moscow, Russia, V.S. Belov, S. V. Bulyarskiy, D.A. Koiva, E.A. Pershina, M.V. Shibalov, K.I. Litvinova
Publikováno v:
Nano- i Mikrosistemnaya Tehnika. 22:136-140
Autor:
M.V. Shibalov, A.P. Sirotina, E.A. Pershina, V.P. Martovitskii, A.A. Shibalova, A.M. Mumlyakov, I.V. Trofimov, E.R. Timofeeva, N.V. Porokhov, E.V. Zenova, M.A. Tarkhov
Publikováno v:
SSRN Electronic Journal.
Autor:
Ekaterina Timofeeva, E.V. Zenova, G. D. Diudbin, I.V. Trofimov, Yu. V. Anufriev, Anna P. Sirotina, N. V. Porokhov, E.A. Pershina, A.M. Tagachenkov, M. A. Tarkhov, M.V. Shibalov, Alexander Mumlyakov
The influence of the buffer layer of hafnia dielectric on superconducting properties of niobium nitride films, produced by the technique of the reactive magnetron depositing has been investigated for the first time. This study presents a comprehensiv
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::cc90dcf41f2c3dc2964e0644289d7b12
http://arxiv.org/abs/2106.15680
http://arxiv.org/abs/2106.15680
Autor:
M.V. Shibalov, E.A. Pershina, K.I. Litvinova, V.S. Belov, A.P. Sirotina, E. P. Kirilenko, E.V. Zenova, A.M. Tagachenkov, M.S. Molodensky
Publikováno v:
Nano- i Mikrosistemnaya Tehnika. 21:465-471
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
P.A. Nekludova, M.G. Verkholetov, G. D. Diudbin, A.M. Tagachenkov, Stanislav A. Evlashin, A.M. Mumlyakov, I.V. Trofimov, Yu. V. Anufriev, Andrey Orlov, M. A. Tarkhov, M.V. Shibalov, E.V. Zenova
Publikováno v:
Journal of Alloys and Compounds. 858:157713
This study presents dielectric properties investigation of hafnium oxide (HfOx), aluminum oxide (AlOx) and tantalum oxide (TaOx) thin films and HfAlTaOx compound based on their multilayer structure. The thickness of all films under study was 40 nm. T
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Welding International. 30:75-78
The mechanical properties, radiographic and metallographic analyses of the structure of welded joints produced by argon-shielded arc welding after repair by resistance spot welding are compared. It is shown that the suitability for repair improves if