Zobrazeno 1 - 10
of 156
pro vyhledávání: '"M.P. Srivastava"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Plasmonics. 8:1273-1278
We report fabrication of gold nanostructures on glass and indium tin oxide (ITO)-coated glass substrates using high fluence and highly energetic gold ions generated by hot, dense, and strongly non-equilibrium plasma. Nanodots and nanorods are observe
Autor:
Ruby Gupta, M.P. Srivastava
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology. 13:371-374
In this paper, we report titanium carbide formation on a titanium metal substrate by using a 3.3 kJ Mather-type dense plasma focus (DPF) device equipped with a graphite carbon source. The titanium substrate is inserted from the top of the plasma cham
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics. 37:1091-1094
Pb(Zr0.53Ti0.47)O3 (PZT) thin films have been successfully deposited on glass, silicon and ITO coated glass substrates by a 3.3?kJ Mather type dense plasma focus device. The x-ray diffraction spectra of the films deposited on glass substrates kept at
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Transactions on Plasma Science. 28:1263-1270
A conventional dense plasma focus (DPF) device shows one or two compression phases. In the present paper, we report on a sequential DPF device with modified central electrode design to obtain more than two compression phases (i.e., multiple focusing)
Publikováno v:
Physica C: Superconductivity. 313:87-92
The highly energetic high fluence argon ions that are generated in dense plasma focus (DPF) device are used for the first time for the enhancement in Tc of superconducting BPSCCO thick films. These films are in mixed phase 2212 (Tc=85 K) and 2223 (Tc