Zobrazeno 1 - 10
of 491
pro vyhledávání: '"M.P. Srivastava"'
Autor:
Agarwal, H.O.
Publikováno v:
Journal of the Indian Law Institute, 1985 Apr 01. 27(2), 344-345.
Externí odkaz:
https://www.jstor.org/stable/43950923
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Plasmonics. 8:1273-1278
We report fabrication of gold nanostructures on glass and indium tin oxide (ITO)-coated glass substrates using high fluence and highly energetic gold ions generated by hot, dense, and strongly non-equilibrium plasma. Nanodots and nanorods are observe
Autor:
Ruby Gupta, M.P. Srivastava
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology. 13:371-374
In this paper, we report titanium carbide formation on a titanium metal substrate by using a 3.3 kJ Mather-type dense plasma focus (DPF) device equipped with a graphite carbon source. The titanium substrate is inserted from the top of the plasma cham
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics. 37:1091-1094
Pb(Zr0.53Ti0.47)O3 (PZT) thin films have been successfully deposited on glass, silicon and ITO coated glass substrates by a 3.3?kJ Mather type dense plasma focus device. The x-ray diffraction spectra of the films deposited on glass substrates kept at
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
IEEE Transactions on Plasma Science. 28:1263-1270
A conventional dense plasma focus (DPF) device shows one or two compression phases. In the present paper, we report on a sequential DPF device with modified central electrode design to obtain more than two compression phases (i.e., multiple focusing)