Zobrazeno 1 - 10
of 141
pro vyhledávání: '"M.J. Walters"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
K.V. Lawson, K.E. Sivick Gauthier, D. Piovesan, A. Mailyan, G. Mata, J.T.A. Fournier, K. Yu, S. Liu, F. Soriano, L. Jin, E. Ginn, P.G. Schweickert, C.A. Meleza, A. Pham, L. Seitz, K. Liao, E. Paterson, P. Foster, M.J. Walters, M. Leleti
Publikováno v:
Annals of Oncology. 33:S21
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4d26d84a20405395eb366fe87a499dfc
https://doi.org/10.1016/j.annonc.2022.01.055
https://doi.org/10.1016/j.annonc.2022.01.055
Publikováno v:
Chemical Engineering Research and Design. 137:395-402
The blending of fluids in large, above ground storage tanks is widely practiced in the petroleum industry yet there have been very few studies of this mixing operation. The most demanding application is found when the tank contents have been allowed
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cecda3a63b13753430b393b1220ea0fa
https://doi.org/10.1016/j.cherd.2018.07.017
https://doi.org/10.1016/j.cherd.2018.07.017
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Materials Chemistry and Physics. 201:271-288
Chemical mechanical planarization (CMP) is a key processing step in the fabrication of copper interconnects. The present work focuses on certain electroanalytical aspects of evaluating slurry materials of CMP to aid the new processing strategies for
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3efde90bdc61f027ba483495fe218700
https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2017.08.052
https://doi.org/10.1016/j.matchemphys.2017.08.052
Publikováno v:
Electrochimica Acta. 224:355-368
Chemical mechanical planarization (CMP) is routinely used in the fabrication of microelectronic devices. The surface chemistries of this technique have become quite complex with the emergence of the sub–22 nm technology nodes. While this has introd
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::de64dde94ddced46fd09d4a8d859f806
https://doi.org/10.1016/j.electacta.2016.12.062
https://doi.org/10.1016/j.electacta.2016.12.062
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.