Zobrazeno 1 - 10
of 130
pro vyhledávání: '"M.I Vexler"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
S.E. Tyaginov, E. Bury, A. Grill, Z. Yu, A. Makarov, A. De Keersgieter, M.I. Vexler, M. Vandemaele, R. Wang, A. Spessot, A. Chasin, B. Kaczer
Publikováno v:
2023 7th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM).
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
M.I. Vexler, G. G. Kareva
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 147:223-226
Display Omitted Resonant-tunneling metal-thin insulator-silicon diodes are considered.To reduce excess currents, high-k-material/SiO2 stacks should be employed.Tunneling in MIS-RTDs with the different stacks is theoretically analyzed.Due to alternati
Autor:
M.I. Vexler
Publikováno v:
Current Applied Physics. 14:306-311
Physical effects arising due to change of configuration of a MIS system from planar to cylindrical, are theoretically analyzed. Attention is paid to the voltage partitioning and all the components of tunneling current. A simple simulation model is de
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Materials Science in Semiconductor Processing. 13:405-410
The possibilities of experimental extraction of the correlation length of insulator thickness fluctuations from the data of electrical measurements on thin metal-insulator-semiconductor (MIS) structures are discussed. The procedure of statistical tre
Publikováno v:
Solid-State Electronics. 48:731-737
For the p-Si, n-Si and n/p + -Si MOS tunnel diodes with a sub-3 nm insulator layer, the interrelation between oxide degradation, changes in current–voltage curves and changes in the luminescence spectra, is experimentally studied. The evolution of