Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"M.E. Shpilevsky"'
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. :937-940
As the methods of X-ray phase analysis and Auger spectroscopy have revealed, argon ions implanted into Cu-Si films cause the temperature of nucleation of silicides (Cu 5 Si and Cu 3 Si) to decrease by approximately 80 K. On implantation under mixing
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::163a2a2ee19b79d259409d9a6531d29f
https://doi.org/10.1016/0257-8972(95)08339-1
https://doi.org/10.1016/0257-8972(95)08339-1
Structure, mechanical and electrical properties of thin films prepared by means of co-deposition of fullerenes C60 and titanium were studied. The obtained results show the potential applicability of titanium-fullerene films as electrotechnical materi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f9e91210837f07833ed82fbfa60fa39f
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00675183
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00675183
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.