Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"M. Zeininger"'
Autor:
Stefan Hirscher, M. Zeininger, A. Chylik, H. Buschbeck, R. Käsmaier, S. Eder, Gerhard Stengl, M. Kümmel, A. Chalupka, Hans Loschner, Oliver Kirch, Andreas Wolter, T. Windischbauer, E. Cekan, R. Nowak, C. Horner, Wolf-Dieter Domke
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :301-307
Ion projection lithography (IPL) uses electrostatic ion-optics for reduction printing of stencil mask patterns to wafer substrates. The IPL process development tool (PDT) prints field sizes of 12.5 mm×12.5 mm (wafer) at a demagnification factor of 4
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::389a87fab0fd1661ea1acfc80d97550b
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(02)00529-4
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(02)00529-4
Autor:
C. Horner, Stefan Hirscher, E. Cekan, Andreas Wolter, Rainer Kaesmaier, Hans Loschner, M. Zeininger, J Ochsenhirt, Wolf-Dieter Domke
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :517-524
Ion projection lithography (IPL) is designed to realize resist structures on the wafer plane well below 100 nm. Patterns from a stencilmask are printed with 4× reduction using an electrostatic lens system. First exposures with the IPL Process Develo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::456b8fd651180ca56a377a271c77f33a
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00543-3
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(01)00543-3
Autor:
Gertraud Lammer, Herbert Buschbeck, B. Mertens, Gerhard Stengl, Arno Jan Bleeker, M. Zeininger, C. Horner, P. W. H. de Jager, E. Cekan, Herbert Vonach, Hans Loschner, E. Munro
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 53:617-620
Coulomb interaction limits the beam current for a required resolution but it can be influenced by the layout of the optical system. Therefore it is necessary to obtain design information for future charged particle lithography tools. Monte Carlo simu
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a2c128046f84b7a53b98adf91832760c
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(00)00390-7
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(00)00390-7
Autor:
P. Hudek, E. Cekan, P. W. H. de Jager, B. Mertens, Arno Jan Bleeker, Hans Loschner, C. Horner, F. Shi, Herbert Vonach, Herbert Buschbeck, H. Heerlein, Rainer Kaesmaier, Jozef Petrus Henricus Benschop, Gertraud Lammer, B. E. Volland, I. W. Rangelow, G. Derksen, M. Zeininger, Gerhard Stengl
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 17:3098
Throughput and resolution are connected in ion and electron projection lithography (IPL and EPL) because of the space charge and Coulomb interaction between the particles in the beam. Due to the lack of experimental data it was not possible to estima
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::a90dc0a0f633355359ada6ae5cde2a36
https://doi.org/10.1116/1.590961
https://doi.org/10.1116/1.590961
Autor:
M, ZEININGER
Publikováno v:
Archiv fur orthopadische und Unfall-Chirurgie. 48(2)
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=pmid________::7e18d44a2a04f94e8850df1e21b208c4
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/13340864
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/13340864
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.