Zobrazeno 1 - 10
of 15
pro vyhledávání: '"M. Okkerse"'
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 303:362-380
Chemical vapor deposition (CVD) process and equipment models aim at relating set macroscopic process conditions (such as the used gases and their respective flowrates, the operating pressure and temperature) to macroscopic and microscopic film proper
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5bac918eb6c70426b15cff2c4d07e551
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2006.12.062
https://doi.org/10.1016/j.jcrysgro.2006.12.062
Publikováno v:
Journal of Applied Physics, 92(7), 4095-4102. American Institute of Physics
Addition of di-nitrogen to the feed gas has been shown to greatly influence growth rates and morphology of the deposited layer in various diamond chemical vapor deposition (CVD) techniques. In this article, several hypotheses for these phenomena, as
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::70c374429ea4493096f384467a919d3e
https://doi.org/10.1063/1.1502925
https://doi.org/10.1063/1.1502925
Publikováno v:
Biotechnology and Bioengineering, 63(4), 418-430. Wiley-VCH Verlag
A dynamic model is developed that describes the degradation of volatile acidifying pollutants in biotrickling filters (BTFs) for waste gas purification. Dynamic modelling enables the engineer to predict the clogging rate of a filter bed and the time
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::83c17009d985820766e3656453ec0711
https://doi.org/10.1002/(sici)1097-0290(19990520)63:4<418::aid-bit5>3.0.co
https://doi.org/10.1002/(sici)1097-0290(19990520)63:4<418::aid-bit5>3.0.co
Publikováno v:
Biotechnology and bioengineering. 63(4)
A dynamic model is developed that describes the degradation of volatile acidifying pollutants in biotrickling filters (BTFs) for waste gas purification. Dynamic modelling enables the engineer to predict the clogging rate of a filter bed and the time
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=pmid________::6ef4ddaf7a5d82658f418bd35585458c
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/10099622
https://pubmed.ncbi.nlm.nih.gov/10099622
Autor:
Jolanda M Okkerse, Frits A Beemer, Gideon J Mellenbergh, Wim H Wolters, Josien A Heineman-de Boer
Publikováno v:
Journal of Craniofacial Surgery; Jul2005, Vol. 16 Issue 4, p517-524, 8p
Publikováno v:
Scopus-Elsevier
An overview is given of the novel developments and trends in Chemical Vapor Deposition process and equipment modeling over the last five years. The developments are illustrated with three recent examples of the modeling research in the authors' group
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::919538adba5a8409674c228efb7d4841
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0343826096&partnerID=MN8TOARS
http://www.scopus.com/inward/record.url?eid=2-s2.0-0343826096&partnerID=MN8TOARS
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.