Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Evaluation of Alternative Atomistic Models for the Incipient Growth of ZnO by Atomic Layer Deposition

Autor: Ahmad Chaker, Jean-Luc Deschanvres, V. Cantelli, Liang Tian, Hubert Renevier, T. Ouled, Marie-Ingrid Richard, Dillon D. Fong, Olivier Thomas, Alexandre Crisci, Evgenii Skopin, Sabine Lay, M. H. Chu, Raphaël Boichot, G. Ciatto

Publikováno v: Journal of Electronic Materials
Journal of Electronic Materials, 2017, 46 (6), pp.3512-3517. ⟨10.1007/s11664-017-5448-2⟩
Journal of Electronic Materials, Institute of Electrical and Electronics Engineers, 2017, 46 (6), pp.3512-3517. ⟨10.1007/s11664-017-5448-2⟩

ZnO thin films are interesting for applications in several technological fields, including optoelectronics and renewable energies. Nanodevice applications require controlled synthesis of ZnO structures at nanometer scale, which can be achieved via at

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ed0f2a168e1a76020f46511792a3456e
https://amu.hal.science/hal-01705058