Zobrazeno 1 - 10
of 33
pro vyhledávání: '"M. Bozack"'
Autor:
E. D. Luckowski, R. W. Johnson, Jeffrey B. Casady, M. Bozack, David C. Sheridan, John R. Williams
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society. 143:1750-1753
The use of pure NF 3 source gas in reactive ion etching of bulk and epitaxy Si-face, 6H-SiC, and 4H-SiC is reported. The effects of RF power and chamber pressure on etch rate and surface morphology are discussed. A process developed for a smooth, res
Publikováno v:
Proceedings of the Forty-Eighth IEEE Holm Conference on Electrical Contacts.
Publikováno v:
Proceedings. 1998 International Conference on Multichip Modules and High Density Packaging (Cat. No.98EX154).
As the laminate substrate industry moves from hot air solder level (HASL) finishes, alternate plating finishes are being proposed, such as immersion gold/electroless nickel, electroless palladium and electroless silver. This paper presents results of
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.