Zobrazeno 1 - 10
of 96
pro vyhledávání: '"M. Belmahi"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Henri N. Migeon, M. Belmahi, Virginie Hody, Badreddine Assouar, Valerie Brien, Paul Kouakou, Jamal Bougdira
Publikováno v:
Plasma Processes and Polymers
Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2007, 4 (S1), pp.S210-S214. ⟨10.1002/ppap.200730703⟩
Plasma Processes and Polymers, Wiley-VCH Verlag, 2007, 4 (S1), pp.S210-S214. ⟨10.1002/ppap.200730703⟩
International audience; The present work deals with the synthesis of crystalline carbon nitride thin films by microwave plasma assisted chemical vapour deposition in N2/CH4 gas mixture. The discharge analysis by optical emission spectroscopy shows th
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::603b9680d1df0ab33a9fc8e710c68f30
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Applied Sciences. 17:306-314
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::610aca0fd69f2b3418e983a728ed5ef4
https://doi.org/10.3923/jas.2017.306.314
https://doi.org/10.3923/jas.2017.306.314
Publikováno v:
Journal of Mass Spectrometry. 51:889-899
Quantitative analyses in secondary ion mass spectrometry (SIMS) become possible only if ionization processes are controlled. The Storing Matter technique has been developed to circumvent this so-called matrix effect, primarily for inorganic samples,
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2ede3c68fc9e215b150c473975b832c3
https://doi.org/10.1002/jms.3797
https://doi.org/10.1002/jms.3797
Autor:
Angélique Bousquet, Guillaume Monier, Hussein Mehdi, Christine Robert-Goumet, Luc Thomas, A. Bachar, Eric Tomasella, Antoine Goullet, M. Belmahi, Thierry Sauvage
Publikováno v:
Applied Surface Science
Applied Surface Science, Elsevier, 2018, 444, pp.293-302. ⟨10.1016/j.apsusc.2018.03.040⟩
Applied Surface Science, 2018, 444, pp.293-302. ⟨10.1016/j.apsusc.2018.03.040⟩
Applied Surface Science, Elsevier, 2018, 444, pp.293-302. ⟨10.1016/j.apsusc.2018.03.040⟩
Applied Surface Science, 2018, 444, pp.293-302. ⟨10.1016/j.apsusc.2018.03.040⟩
International audience; Radiofrequency reactive magnetron sputtering was used to deposit hydrogenated amorphous silicon carbonitride (a-SiCxNy:H) at 400 °C by sputtering a silicon target under CH4 and N2 reactive gas mixture. Rutherford backscatteri
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::d7fcc14a856df9591659a40ad105a00d
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01774950
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-01774950
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
M. Belmahi, Laurent Le Brizoual, Amanda Thouvenin, R. Hugon, Patrice Miska, Jamal Bougdira, Ludovic de Poucques, Damien Genève, Jean-Luc Vasseur, Simon Bulou
Publikováno v:
Plasma Processes and Polymers. 11:551-558
SiCxNy:H thin films are obtained with the microwave plasma assisted chemical vapour deposition (MPACVD) method in the gas mixture H2/Ar/Hexamethyldisilazane. When very few amounts of nitrogen are added to the gas mixture, the film composition changes
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::388ae74c51ea85f7378cf5c18f964d99
https://doi.org/10.1002/ppap.201300166
https://doi.org/10.1002/ppap.201300166
Autor:
Laurent Le Brizoual, Patrice Miska, M. Belmahi, Ludovic de Poucques, Jamal Bougdira, Simon Bulou
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology
Surface and Coatings Technology, Elsevier, 2012, 208, pp.46-50. ⟨10.1016/j.surfcoat.2012.07.079⟩
Surface and Coatings Technology, 2012, 208, pp.46-50. ⟨10.1016/j.surfcoat.2012.07.079⟩
Surface and Coatings Technology, Elsevier, 2012, 208, pp.46-50. ⟨10.1016/j.surfcoat.2012.07.079⟩
Surface and Coatings Technology, 2012, 208, pp.46-50. ⟨10.1016/j.surfcoat.2012.07.079⟩
SiC x N y :H thin film growth has been achieved in N 2 /H 2 /Ar/hexamethyldisilazane microwave plasma induced chemical vapor deposition process. Depending on the N 2 and H 2 flow rates, film composition can be changed from “SiC x :H-like” to “S
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::702ea8648f829a4d2436da0e342e4214
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.07.079
https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2012.07.079