Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"M. Azrack"'
Publikováno v:
2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432).
Some ASIC parts in the 0.5 /spl mu/m range experienced severe yield loss due to implant charging issues during the source/drain extension implant. The failing dice were in a circular pattern. The edge intensive poly over gate oxide test structures sh
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.