Zobrazeno 1 - 10
of 751
pro vyhledávání: '"M Nishiwaki"'
Autor:
H. Murano, S. Inoue, O. Miyazaki, T. Hanawa, Y. Minegishi, K. Sato, M. Kobayashi, M. Sato, T. Nemoto, M. Nishiwaki, A. Igarashi, T. Hashidate-Yoshida, H. Shindou, M. Watanabe, T. Shimizu
Publikováno v:
C69. PRECLINICAL COPD MODELS: IN VITRO, EX VIVO, IN VIVO.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cae5cffdbdf02554c21d6141c746193d
https://doi.org/10.1164/ajrccm-conference.2023.207.1_meetingabstracts.a5721
https://doi.org/10.1164/ajrccm-conference.2023.207.1_meetingabstracts.a5721
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Thin Solid Films. 570:134-137
We show that epitaxial Co2MnSi films can be fabricated on lattice-matched MgAl2O4 substrates using an ion-beam-assisted sputtering method. Low temperature growth below ~ 500 °C with Ar ion-beam assistance enabled high-quality Co2MnSi films with idea
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::b149fec27989a06d665eeb5ba2978353
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.09.045
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.09.045