Zobrazeno 1 - 10
of 22
pro vyhledávání: '"Lyytinen, Jussi"'
Autor:
Lyytinen, Jussi, Liu, Xuwen, Ylivaara, Oili M.E., Sintonen, Sakari, Iyer, Ajai, Ali, Saima, Julin, Jaakko, Lipsanen, Harri, Sajavaara, Timo, Puurunen, Riikka L., Koskinen, Jari
Publikováno v:
In Wear 15 November 2015 342-343:270-278
Autor:
Ylivaara, Oili M.E., Liu, Xuwen, Kilpi, Lauri, Lyytinen, Jussi, Schneider, Dieter, Laitinen, Mikko, Julin, Jaakko, Ali, Saima, Sintonen, Sakari, Berdova, Maria, Haimi, Eero, Sajavaara, Timo, Ronkainen, Helena, Lipsanen, Harri, Koskinen, Jari, Hannula, Simo-Pekka, Puurunen, Riikka L.
Publikováno v:
In Thin Solid Films 3 February 2014 552:124-135
Autor:
Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Boyadjiev, Stefan, Cameron, David C., Chen, Rong, Chubarov, Mikhail, Cremers, Veronique, Devi, Anjana, Drozd, Viktor, Elnikova, Liliya, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hausmann, Dennis M., Hwang, Cheol Seong, Jen, Shih-Hui, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Kim, Do Han, Klibanov, Lev, Koshtyal, Yury, Krause, A. Outi I., Kuhs, Jakob, Kaerkkaenen, Irina, Kaariainen, Marja-Leena, Kaariainen, Tommi, Lamagna, Luca, Lapicki, Adam A., Leskela, Markku, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Mennad, Abdelkader, Militzer, Christian, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Rampelberg, Geert, Ras, Robin H. A., Rauwel, Erwan, Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Salami, Hossein, Savin, Hele, Schneider, Nathanaelle, Seidel, Thomas E., Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry B., Törndahl, Tobias, van Ommen, J. Ruud, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Atomic layer deposition (ALD), a gas-phase thin film deposition technique based on repeated, self-terminating gas-solid reactions, has become the method of choice in semiconductor manufacturing and many other technological areas for depositing thin c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::b61ad2530953894e15e6f0bc01534da0
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
Autor:
Aarik, Jaan, Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Cameron, David, Chekurov, Nikolai, Chubarov, Mikhail, Drozd, Viktor, Elliott, Simon, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hwang, Cheol Seong, Junige, Marcel, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Koshtyal, Yury, Krause, Outi, Kääriäinen, Marja-Leena, Kääriäinen, Tommi, Lamagna, Luca, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Pyymaki-Perros, Alexander, Ras, Robin H. A., Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Savin, Hele, Seidel, Thomas E., Sundberg, Pia, Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry, Tallarida, Massimo, Törndahl, Tobias, Utriainen, Mikko, van Ommen, J. Ruud, Wächtler, Thomas, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Publikováno v:
Aarik, J, Ahvenniemi, E, Akbashev, A R, Ali, S, Bechelany, M, Berdova, M, Cameron, D, Chekurov, N, Chubarov, M, Drozd, V, Elliott, S, Gottardi, G, Grigoras, K, Hwang, C S, Junige, M, Kallio, T, Kanervo, J, Khmelnitskiy, I, Koshtyal, Y, Krause, O, Kääriäinen, M-L, Kääriäinen, T, Lamagna, L, Lipsanen, H, Lyytinen, J, Malkov, A, Malygin, A, Molarius, J, Norek, M, Ozgit-Akgun, C, Panov, M, Pedersen, H, Piallat, F, Popov, G, Puurunen, R L, Pyymaki-Perros, A, Ras, R H A, Roozeboom, F, Sajavaara, T, Savin, H, Seidel, T E, Sundberg, P, Sundqvist, J, Suyatin, D, Tallarida, M, Törndahl, T, Utriainen, M, van Ommen, J R, Wächtler, T, Wiemer, C, Ylivaara, O M E & Yurkevich, O 2016, ' On the early history of atomic layer deposition : most significant works and applications ', 16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016, Dublin, Ireland, 24/07/16-27/07/16 .
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::3b2b52ef81afcdd0edebc708b823184f
https://cris.vtt.fi/en/publications/03707523-8c1a-4bbc-8828-d8f850920e09
https://cris.vtt.fi/en/publications/03707523-8c1a-4bbc-8828-d8f850920e09
Autor:
Puurunen, Riikka L., Ali, Saima, Arstila, Kai, Berdova, Maria, Haimi, Eero, Heikkinen, Hannele, Julin, Jaakko, Kilpi, Lauri, Laitinen, Mikko, Liu, Xuwen, Lyytinen, Jussi, Malm, Jari, Pyymaki-Perros, Alexander, Rontu, Ville, Sintonen, Sakari, Ylivaara, Oili, Sajavaara, Timo, Lipsanen, Harri, Franssila, Sami, Koskinen, Jari, Ronkainen, Helena, Hannula, Simo-Pekka, Kiihamäki, Jyrki
Publikováno v:
Puurunen, R L, Ali, S, Arstila, K, Berdova, M, Haimi, E, Heikkinen, H, Julin, J, Kilpi, L, Laitinen, M, Liu, X, Lyytinen, J, Malm, J, Pyymaki-Perros, A, Rontu, V, Sintonen, S, Ylivaara, O, Sajavaara, T, Lipsanen, H, Franssila, S, Koskinen, J, Ronkainen, H, Hannula, S-P & Kiihamäki, J 2015, Mechanical property mapping of ALD thin films . in Technical Program & Abstracts . American Vacuum Society (AVS), 13th International Baltic Conference on Atomic Layer Deposition, Baltic ALD 2015, Tartu, Estonia, 28/09/15 .
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::f68ea465f348978099e21d2bc47f739d
https://cris.vtt.fi/en/publications/d7143751-1332-4e73-8f0b-9a397d66d07e
https://cris.vtt.fi/en/publications/d7143751-1332-4e73-8f0b-9a397d66d07e
Autor:
Ylivaara, Oili, Liu, Xuwen, Kilpi, Lauri, Lyytinen, Jussi, Schneider, Dieter, Laitinen, Mikko, Julin, Jaakko, Ali, Saima, Sintonen, Sakari, Berdova, Maria, Haimi, Eero, Sajavaara, Timo, Ronkainen, Helena, Lipsanen, Harri, Koskinen, Jari, Hannula, Simo-Pekka, Puurunen, Riikka L.
Publikováno v:
Ylivaara, O, Liu, X, Kilpi, L, Lyytinen, J, Schneider, D, Laitinen, M, Julin, J, Ali, S, Sintonen, S, Berdova, M, Haimi, E, Sajavaara, T, Ronkainen, H, Lipsanen, H, Koskinen, J, Hannula, S-P & Puurunen, R L 2013, ALD Al2O3 from TMA and water on Si: residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion : residual stress, elastic modulus, hardness and adhesion . in Technical Program & Abstracts, published abstract of a poster . American Vacuum Society (AVS), 13th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2013, San Diego, California, United States, 28/07/13 .
Use of atomic layer deposition (ALD) in microelectromechanical systems (MEMS) has increased as ALD enables conformal growth on 3-dimensional structures at relatively low temperatures. For MEMS device design and fabrication, understanding of the resid
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=355e65625b88::b778814cddfbf2793534fd81b67ffa04
https://cris.vtt.fi/en/publications/ec50265d-6880-4044-813a-17864b3d9f09
https://cris.vtt.fi/en/publications/ec50265d-6880-4044-813a-17864b3d9f09
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Liimatainen, Ville, Venalainen, Janne, Koverola, Mikko, Zhou, Quan, Lyytinen, Jussi, Koskinen, Jari, Rontu, Ville, Berdova, Maria, Franssila, Sami
Publikováno v:
2014 International Conference on Manipulation, Manufacturing & Measurement on the Nanoscale (3M-NANO); 2014, p23-27, 5p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.