Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Long, Mark K."'
Autor:
Long, Mark K.
Publikováno v:
Computer aided mask layout synthesis for anisotrophic etch photolithography [electronic thesis]
Thesis (Ph. D.). UM #9932850.
Includes bibliographical references.
Includes bibliographical references.
Externí odkaz:
http://resolver.caltech.edu/CaltechETD:etd-02142008-130713
Autor:
Backes, Paul G., Beahan, John, Long, Mark K., Steele, Robert D., Bon, Bruce, Zimmerman, Wayne
Publikováno v:
Robotica; Nov1994, Vol. 12 Issue 6, p481-490, 10p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.