Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"Liu Yao-Ping"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Acta Physica Sinica. 67:226801
As a kind of important semiconductor material, crystalline silicon has vast applications in many industries, such as integrated circuits and solar cells. With anisotropic etching method, including alkali etching and copper assisted catalytic etching,
Publikováno v:
2014 IEEE International Symposium on Circuits & Systems (ISCAS); 2014, p1352-1355, 4p
Publikováno v:
Chinese Physics B. 20:066104
In the present work, post-annealing is adopted to investigate the formation and the correlation of Sb complexes and Zn interstitials in Sb-ion implanted ZnO films, by using Raman scattering technique and electrical characterizations. The damage of Zn
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Zhang Dan1,2 zhangdanangel@hot.mail.com, Zhang De-Min3, Liu Yao-Ping2, Cao Wen-Wei1, Chen Guan-Xion2
Publikováno v:
Journal of Environmental Sciences (IOS Press). Sep2004, Vol. 16 Issue 5, p838-842. 5p.
Autor:
Mei Zeng-Xia, Du Xiao-Long, Cui Xiu-Zhi, Guo Yang, Su Xi-Yu, Liu Zhang-Long, Zhang Tian-Chong, Liu Yao-Ping, Xue Qi-Kun
Publikováno v:
ResearcherID
A ZnO film with two-dimensional periodic structure was grown on Si substrate by radio-frequency plasma-assisted molecular beam epitaxy. The influence of wet-chemical etching on Si (100) and Si (111) substrates patterned with dot arrays was investigat
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::5152c8a63e6a687ff19cff4d8b293c72
http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=ORCID&SrcApp=OrcidOrg&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=WOS:000262834300048&KeyUID=WOS:000262834300048
http://gateway.webofknowledge.com/gateway/Gateway.cgi?GWVersion=2&SrcAuth=ORCID&SrcApp=OrcidOrg&DestLinkType=FullRecord&DestApp=WOS_CPL&KeyUT=WOS:000262834300048&KeyUID=WOS:000262834300048