Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"Lin Yih Shung"'
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In-line DICD control is universally used in wafer fabs to ensure on-target FICD and to monitor process fluctuation. However, how to set up an optimal DICD target sometimes becomes ambiguous as the device dimension shrinks and various photo- and etch-
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::dc4c5de69bb83ec097d7cdc2feeb94b6
https://doi.org/10.1117/12.350785
https://doi.org/10.1117/12.350785
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 11/ 1/1994, Issue 1, p148-154, 7p
Autor:
Liao, De-Dui, Lin, Yih-Shung, Yang, Hong, Witham, Howard, Saenz, Javier, May, Jeff S., Lee, Jen-Jiang J.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 11/ 1/1994, Issue 1, p177-188, 12p
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.