Zobrazeno 1 - 5
of 5
pro vyhledávání: '"Lin Kuang-Lun"'
Publikováno v:
In Solid State Electronics Letters July 2019 1(2):119-130
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of 11th International Conference on Ion Implantation Technology.
Modern high current implanters utilize secondary electron flood (SEF) or plasma electron flood (PEF) technology to provide charging control. Excessive negative charging may occur in the presence of electrons with a high energy distribution. We presen
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Proceedings of 11th International Conference on Ion Implantation Technology; 1996, p315-318, 4p