Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"Ligl, J."'
Autor:
Langer, J., Cimalla, V., Prescher, M., Ligl, J., Tegetmeyer, B., Schreyvogel, C., Ambacher, O.
In situ plasma etching is a common method to prepare diamond substrates for epitaxial overgrowth to effectuate higher quality. However, there is no practical, direct, qualitative method established so far to assess the performance of the etching pret
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2101.07741
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.