Zobrazeno 1 - 10
of 32
pro vyhledávání: '"Liang, Huazhuo"'
Autor:
Zhou, Wenjie, Chen, Yetong, Li, Yong, He, Junfeng, Liu, Yixiong, Gao, Jixiang, Jian, Yue, Liang, Huazhuo
Publikováno v:
In Case Studies in Thermal Engineering September 2024 61
Publikováno v:
In Precision Engineering July 2023 82:370-382
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
In Precision Engineering April 2018 52:221-226
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Liang, Huazhuo1 (AUTHOR), Yan, Qiusheng1 (AUTHOR), Lu, Jiabin1 (AUTHOR) lujiabin@gdut.edu.cn, Luo, Bin1 (AUTHOR), Xiao, Xiaolan1 (AUTHOR)
Publikováno v:
International Journal of Advanced Manufacturing Technology. Jul2019, Vol. 103 Issue 1-4, p1337-1348. 12p. 6 Diagrams, 6 Graphs.
Publikováno v:
International Journal of Advanced Manufacturing Technology; 1/8/2023, Vol. 124 Issue 3/4, p973-987, 15p, 1 Color Photograph, 4 Black and White Photographs, 1 Diagram, 4 Charts, 7 Graphs
Publikováno v:
The International Journal of Advanced Manufacturing Technology. 103:1337-1348
With a view to ultra-precision polishing of SiC wafers, the chemical-magnetorheological compound finishing (CMRF) method was proposed based on the principle of the Fenton reaction. To study material removal characteristics of CMRF, a force model for
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fdd12be8b521f90a0d9edfa734064759
https://doi.org/10.1007/s00170-019-03594-5
https://doi.org/10.1007/s00170-019-03594-5
Publikováno v:
AIMS Materials Science. 2018, Vol. 5 Issue 6, p1112-1123. 12p.