Zobrazeno 1 - 10
of 148
pro vyhledávání: '"Lewis, Rupert"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Cherepy, Nerine J., Fiederle, Michael, James, Ralph B., Freeman, Matthew L., Skinner-Ramos, Sueli, Lewis, Rupert M., Carr, Stephen M.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; October 2024, Vol. 13151 Issue: 1 p131510H-131510H-4, 1183595p
Autor:
Lu, Rongtao, Elliot, Alan J., Wille, Logan, Mao, Bo, Han, Siyuan, Wu, Judy Z., Talvacchio, John, Schulze, Heidi M., Lewis, Rupert M., Ewing, Daniel J., Yu, H. F., Xue, G. M., Zhao, S. P.
Publikováno v:
IEEE Trans. Appl. Supercond. Vol. 23, No. 3, June 2013
Atomic layer deposition (ALD) provides a promising approach for deposition of ultrathin low-defect-density tunnel barriers, and it has been implemented in a high-vacuum magnetron sputtering system for in situ deposition of ALD-Al2O3 tunnel barriers i
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1309.4410
Autor:
Elliot, Alan J., Malek, Gary, Wille, Logan, Lu, Rongtao, Han, Siyuan, Wu, Judy Z., Talvacchio, John, Lewis, Rupert M.
Publikováno v:
IEEE Trans. Appl. Supercond. Vol 23, No. 3, June 2013
Ultrathin dielectric tunneling barriers are critical to Josephson junction (JJ) based superconducting quantum bits (qubits). However, the prevailing technique of thermally oxidizing aluminum via oxygen diffusion produces problematic defects, such as
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1309.4404
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.