Non-isoplanatic lens aberration correction in dark-field digital holographic microscopy for semiconductor metrology

Autor: Tamar van Gardingen-Cromwijk, Sander Konijnenberg, Wim Coene, Manashee Adhikary, Teus Tukker, Stefan Witte, Johannes F. de Boer, Arie den Boef

Publikováno v: Light: Advanced Manufacturing, Vol 4, Iss 4, Pp 453-465 (2024)

In the semiconductor industry, the demand for more precise and accurate overlay metrology tools has increased because of the continued shrinking of feature sizes in integrated circuits. To achieve the required sub-nanometre precision, the current tec

Externí odkaz: https://doaj.org/article/7e2b9089b27342a49dfd7bd5699750c0

Dark-Field Digital Holographic Microscopy For Advanced Semiconductor Metrology

Autor: Christos Messinis

Publikováno v: Vrije Universiteit Amsterdam
Messinis, C 2022, ' Dark-Field Digital Holographic Microscopy For Advanced Semiconductor Metrology ', PhD, Vrije Universiteit Amsterdam .

The goal of this thesis is to investigate the potential use of dark-field Digital Holographic Microscopy for advanced semiconductor overlay metrology. We will present first overlay metrology results using a novel off-axis dark-field digital holograph

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::8a6625f7fff15d15030332b398265327
https://research.vu.nl/en/publications/ee66dc7d-e981-4b1d-be2c-9b60e31d11ce

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.