Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Atomic layer deposition for spacer defined double patterning of sub-10 nm titanium dioxide features

Autor: Dallorto, Stefano, Staaks, Daniel, Schwartzberg, Adam, Yang, XiaoMin, Lee, Kim Y, Rangelow, Ivo W, Cabrini, Stefano, Olynick, Deirdre L

Publikováno v: Dallorto, S; Staaks, D; Schwartzberg, A; Yang, X; Lee, KY; Rangelow, IW; et al.(2018). Atomic layer deposition for spacer defined double patterning of sub-10 nm titanium dioxide features. Nanotechnology, 29(40). doi: 10.1088/1361-6528/aad393. Lawrence Berkeley National Laboratory: Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/2mq5j0t3
Nanotechnology, vol 29, iss 40

© 2018 IOP Publishing Ltd. The next generation of hard disk drive technology for data storage densities beyond 5 Tb/in2will require single-bit patterning of features with sub-10 nm dimensions by nanoimprint lithography. To address this challenge mas

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::97fc841ae7157d0ecebad5e44ec5be83
http://www.escholarship.org/uc/item/2mq5j0t3

Multiple electron-beam lithography

Autor: Chang, T.H.P. ^∗, Mankos, Marian, Lee, Kim Y., Muray, Larry P.

Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2001 57:117-135

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.