Výsledky vyhledávání - "Lee, J. T. C."

Akademický článek

Exploring the implicit meanings of 'cultural diversity': a critical conceptual analysis of commonly used approaches in medical education.

Autor: Zanting A; Department of Health, Ethics and Society, School of Health Professions Education, Faculty of Health, Medicine and Life Sciences, Maastricht University, Maastricht, The Netherlands. albertine.zanting@maastrichtuniversity.nl., Frambach JM; School of Health Professions Education, Faculty of Health, Medicine and Life Sciences, Maastricht University, Maastricht, The Netherlands., Meershoek A; Department of Health, Ethics and Society, Faculty of Health, Medicine and Life Sciences, Maastricht University, Maastricht, The Netherlands., Krumeich A; Department of Health, Ethics and Society, School of Health Professions Education, Faculty of Health, Medicine and Life Sciences, Maastricht University, Maastricht, The Netherlands.

Publikováno v: Advances in health sciences education : theory and practice [Adv Health Sci Educ Theory Pract] 2024 Sep 14. Date of Electronic Publication: 2024 Sep 14.

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

The role of feedgas chemistry, mask material, and processing parameters in profile evolution during plasma etching of Si(100).

Autor: Lane, J. M., Bogart, K. H. A., Klemens, F. P., Lee, J. T. C.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 5, p2067-2079, 13p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Role of sidewall scattering in feature profile evolution during Cl2 and HBr plasma etching of silicon.

Autor: Vyvoda, M. A., Li, M., Graves, D. B., Lee, H., Malyshev, M. V., Klemens, F. P., Lee, J. T. C., Donnelly, V. M.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2000, Vol. 18 Issue 2, p820-833, 14p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Mask charging and profile evolution during chlorine plasma etching of silicon.

Autor: Bogart, K. H. A., Klemens, F. P., Malyshev, M. V., Colonell, J. I., Donnelly, V. M., Lee, J. T. C., Lane, J. M.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 1, p197-206, 10p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Feature evolution during plasma etching. II. Polycrystalline silicon etching.

Autor: Lane, J. M., Klemens, F. P., Bogart, K. H. A., Malyshev, M. V., Lee, J. T. C.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 1, p188-196, 9p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Akademický článek

Langmuir probe studies of a transformer-coupled plasma, aluminum etcher.

Autor: Malyshev, M. V., Donnelly, V. M., Kornblit, A., Ciampa, N. A., Colonell, J. I., Lee, J. T. C.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1999, Vol. 17 Issue 2, p480-492, 13p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Plasma etching process development using in situ optical emission and ellipsometry.

Autor: Lee, J. T. C., Blayo, N., Tepermeister, I., Klemens, F. P., Mansfield, W. M., Ibbotson, D. E.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 5, p3283-3290, 8p

Zobrazit plný text záznamu

Akademický článek

Metal stack etching using a helical resonator plasma.

Autor: Labelle, C. B., Maynard, H. L., Lee, J. T. C.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1996, Vol. 14 Issue 4, p2574-2581, 8p

Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání