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Autor:
Leandro Leite Tezani
Publikováno v:
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações do ITAInstituto Tecnológico de AeronáuticaITA.
Este trabalho explora a caracterização e aplicação de plasmas gerados em reatores do tipo Reactive Ion Etching (RIE) e Hollow Cathode Reactive Ion Etching (HCRIE), no processo de corrosão de silício. Para melhor controle do processo, o sistema
Autor:
Leandro Leite Tezani
Publikováno v:
Biblioteca Digital de Teses e Dissertações do ITAInstituto Tecnológico de AeronáuticaITA.
Este trabalho explora a implementação, caracterização e aplicação de um reator constritivo para geração de um jato de plasma de hexafluoreto de enxofre (SF6) operado em alto vácuo para corrosão de silício. Este sistema possibilita uma alta