Zobrazeno 1 - 10
of 118
pro vyhledávání: '"Laubis, C."'
Publikováno v:
Proc. SPIE Vol. 8166 (2011) 81661Q
EUV scatterometry is performed on 3D patterns on EUV lithography masks. Numerical simulations of the experimental setup are performed using a rigorous Maxwell solver. Mask geometry is determined by minimizing the difference between experimental resul
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1110.4760
Publikováno v:
Proc. SPIE Vol. 7028 (2008) 70280P
Extreme ultraviolet (EUV) lithography is seen as a main candidate for production of future generation computer technology. Due to the short wavelength of EUV light (around 13 nm) novel reflective masks have to be used in the production process. A pre
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1011.2665
Publikováno v:
Proc. SPIE Vol. 6349 (2006) 63493D. (26th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology, P. M. Martin, R. J. Naber, Eds.)
We present rigorous simulations of EUV masks with technological imperfections like side-wall angles and corner roundings. We perform an optimization of two different geometrical parameters in order to fit the numerical results to results obtained fro
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/physics/0610236
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
BenMoussa, A., Theissen, A., Scholze, F., Hochedez, J.F., Schühle, U., Schmutz, W., Haenen, K., Stockman, Y., Soltani, A., McMullin, D., Vest, R.E., Kroth, U., Laubis, C., Richter, M., Mortet, V., Gissot, S., Delouille, V., Dominique, M., Koller, S., Halain, J.P, Remes, Z., Petersen, R., D’Olieslaeger, M., Defise, J.-M.
Publikováno v:
In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, A 2006 568(1):398-405
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2006 83(4):707-709
Autor:
Laubis, C., Babalik, A., Babuschkin, A., Barboutis, A., Buchholz, C., Fischer, A., Jaroslawzew, S., Lehnert, J., Mentzel, H., Puls, J., Schönstedt, A., Sintschuk, M., Stadelhoff, C., Tagbo, C., Scholze, F.
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 1/20/2019, Vol. 10957, p109571L-1-109571L-12, 12p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.