Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Larry F. Bacchetti"'
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
Negative tone chemically amplified i-line resists possess several advantages compared to conventional DNQ-Novolak resist. These advantages include excellent lithographic performance at a fast, tunable photospeed, high transparency, high thermal flow
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fdb9b3bb473d9415fadcab53002c020e
https://doi.org/10.1117/12.350264
https://doi.org/10.1117/12.350264
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.