Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"Larry C. Davis"'
Autor:
Milton L. Peabody, David Lee Windt, B. Boyer, James Alexander Liddle, Larry C. Davis, Richard J. Kasica, Steve L. Hentschel, Larry S. Zurbrick, James N. Wiley, Anthony E. Novembre, Christopher M. Aquino, Reginald C. Farrow, Thomas E. Saunders, Myrtle I. Blakey, Masis Mkrtchyan
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The purpose of the study reported here was to determine the range of material parameters and optical conditions necessary for using light to identify and categorize defects and to measure linewidths in SCALPEL masks. A prototype 4X SCALPEL mask with
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::d402b7210c9d04e5f38f69a06f91c7dd
https://doi.org/10.1117/12.308730
https://doi.org/10.1117/12.308730
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
In evaluating the lithography road maps for the semiconductor industry, the continued development of techniques to extend the utility of optical methods through the 64- and 256- Megabit device generations seems assured. These developments will drive
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::be26f08ab8969209fdf3669d3521446e
https://doi.org/10.1117/12.228186
https://doi.org/10.1117/12.228186
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.