Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"L.P Kendig"'
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 132:124-129
The residual stress varied substantially as a function of thickness in a series of 2.5 to 500 nm thick Mo films. Films were sputter deposited onto Si wafers with native oxide, and the residual stress was measured using double crystal diffraction topo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::237c07d6a400af833ea49ac237a62a92
https://doi.org/10.1016/s0257-8972(00)00908-7
https://doi.org/10.1016/s0257-8972(00)00908-7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.