Zobrazeno 1 - 10
of 98
pro vyhledávání: '"L. de Poucques"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Surface and Coatings Technology. 433:128073
Characterization of transport of titanium neutral atoms sputtered in Ar and Ar/N 2 HIPIMS discharges
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology
Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2019, 28 (3), pp.035005. ⟨10.1088/1361-6595/ab022b⟩
Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2019, 28 (3), pp.035005. ⟨10.1088/1361-6595/ab022b⟩
International audience; In this work we report on the investigation of the transport behavior of Ti neutral atoms sputtered in a reactive high power impulse magnetron sputtering device used for TiN coating deposition. The time-resolved tunable diode
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::a3c137027fc705bbbb04454e76a8638c
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02319596
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02319596
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Michel Touzeau, J. Bretagne, Jean-Christophe Imbert, P. Pitach, Lionel Teulé-Gay, M. C. Hugon, C. Boisse-Laporte, D Pagnon, L. de Poucques
Publikováno v:
Thin Solid Films. 516:4700-4708
The Ionized Physical Vapour Deposition technique has been developed since 1990 as an improvement of the magnetron sputtering technique to obtain more conformal and dense deposited layers. Amongst the different methods developed to ensure the ionizati
Autor:
Marcel Meško, Jean-Christophe Imbert, D Pagnon, L. de Poucques, Michel Touzeau, Mihai Ganciu, J. Bretagne, Caroline Boisse-Laporte, Petr Vašina
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology. 16:501-510
This paper is focused on experimental studies of a high power pulsed magnetron discharge stabilized by low current pre-ionization. Time resolved studies were performed for a Cu target by optical emission spectroscopy and electrical measurements for d
Publikováno v:
Plasma Sources Science and Technology
Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2015, 24 (1), pp.015012. ⟨10.1088/0963-0252/24/1/015012⟩
Plasma Sources Science and Technology, IOP Publishing, 2015, 24 (1), pp.015012. ⟨10.1088/0963-0252/24/1/015012⟩
In this study a tuneable diode-laser induced fluorescence (TD-LIF) technique (λ0 = 407.4358 nm) is used to determine the atoms' velocity distribution function (AVDF) of energetic and thermalized sputtered tungsten (W) atoms in direct current magnetr