Zobrazeno 1 - 10
of 11
pro vyhledávání: '"L. W. Teo"'
Autor:
W. Kwong, A. L. Neilson, R. M. Hamilton, C. C. Chiu, E. A. Stephenson, G. J. Gross, L. Soucie, J. A. Kirsh, Z. xian-hui, T. Bao-peng, L. Jin-xin, Z. Yu, Z. Yan-yi, Z. Jiang-hua, T. Hirahara, Y. Sugawara, C. Suga, J. Ako, S. Momomura, A. V. Ardashev, E. G. Zhelyakov, A. V. Konev, M. S. Rybachenko, Y. N. Belenkov, R. Bai, L. Di Biase, P. Santangeli, L. C. Saenz, A. Verma, J. Sanchez, C. Tondo, A. Natale, F. Safari, S. Hajizadeh, A. Mani, A. Khoshbaten, M. Foadoddini, S. S. Forush, G. Bayat, S.-H. Kim, D. Chong, C. K. Ching, R. Liew, null Galalardin, M. W. Khin, W. S. Teo, B. Y. Tan, T. Sakamoto, M. Al Mehairi, S. A. Al Ghamdi, K. Dagriri, A. Al Fagih, R. Selvaraj, B. Ezhumalai, S. Satheesh, A. Ajit, P. Gobu, J. Balachander, X.-q. Liu, X. Zhou, G. Yang, G.-z. Zhong, L. Shi, Y. Tian, Y.-b. Li, A.-h. Wang, X.-c. Yang, S. Takenaka, H. Ozaki, M. Nakamura, M. Otsuka, Y. Tsurumi, G. Nolker, K. J. Gutleben, G. Ritscher, A. M. Sinha, B. Muntean, J. Heintze, J. Vogt, J. Brachmann, D. Horstkotte, T. Katsuyuki, F. McGrew, E. Johnson, M. Coppess, I. Fan, S. Li, L. Zhiyu, L. Zengzhang, L. Xianbin, Y. Yuehui, L. Min, Z. Shu-long, C. Dong, Z. Zhi-tao, W. Xian-jing, D. Ying-xue, Z. Shu-Long, Z. Zhi-Tao, W. Xian-Jing, D. Ying-Xue, P. Liu, J.-H. Guo, Z. Zhang, J. Li, H.-G. Liu, H.-C. Zhang, V. Zvereva, A. Rillig, U. Meyerfeldt, W. Jung, L. Wei, G. Qi, Q. Zhang, Y. Xia, A. Doi, K. Satomi, I. Nakajima, H. Makimoto, T. Yokoyama, Y. Yamada, H. Okamura, T. Noda, T. Aiba, W. Shimizu, N. Aihara, S. Kamakura, Z. Li, Q.-y. Zhao, C.-x. Huang, C. Min-Seok, P. Jeong-Wook, H. Young-Woong, P. Sung-Eun, U. Jae-Sun, O. Yong-Seog, S. Woo-Seung, K. Ji-Hoon, J. Seong-Won, L. Man-Young, R. Tae-Ho, J.-S. Uhm, Y.-S. Oh, M.-S. Choi, J.-W. Park, Y.-W. Ha, S.-E. Park, S.-W. Jang, W.-S. Shin, J.-H. Kim, M.-Y. Lee, T.-H. Rho, J. B. Nielsen, M. S. Olesen, M. Tango, S. Haunso, A. G. Holst, J. H. Svendsen, D. Poci, A.-M. Thogersen, S. Riahi, P. Linde, N. Edvardsson, C. W. Khoo, S. Krishnamoorthy, G. Dwivedi, B. Balakrishnan, H. S. Lim, G. Y. H. Lip, S. D'Ascia, C. D'ascia, V. Marino, M. Chiariello, G. Santulli, L. Music, K. Anderson, B. S. Benzaquen, C. Saponieri, H. Yassin, V. Fridman, B. C. Vasavada, G. Turitto, N. El-Sherif, H. Prabhu, Y. Huang, M. C. Ortega, E. S.-H. Sosa, A. N. Ugalde, A. Al Jamil, M. Abu Siddique, K. M. H. S. S. Haque, S.-i. Momomura, R. Mlynarski, A. Mlynarska, G. Ilczuk, J. Wilczek, M. Sosnowski, R. Kohno, H. Abe, T. Nagatomo, Y. Oginosawa, H. Minamiguchi, Y. Otsuji, S. Ekinci, M. Yesil, S. Bayata, V. K. Vurgun, E. Arikan, N. Postaci, R. Xiaoqing, P. Jielin, Z. Shu, M. Liang, W. Fangzheng, K. Takahashi, T. Tokano, Y. Nakazato, S. Doi, T. Shiozawa, H. Konishi, M. Hiki, Y. Kato, S. Komatsu, S. Takahashi, N. Kubota, H. Tamura, S. Suwa, M. Ohki, T. Katsumata, K. Kizu, F. Bito, M. Sumiyoshi, H. D. Juntendo, T. Yukoyama, F. Perna, M. Leo, L. Leccisotti, M. Casella, G. Pelargonio, M. Lago, G. Bencardino, M. L. Narducci, E. Russo, A. Giordano, F. Bellocci, T. Song, J. Yang, C. Huang, J. Zhang, P. Wu, Y. Chen, X. Fan, T. Wang, X. Wang, Y. Tang, C.-X. Huang, X.-R. Fan, Y.-J. Chen, X.-W. Li, T. Buescher, D. Obias-Manno, C.-J. Yoo, J. Huh, H. Nakanishi, A. Hirata, M. Wada, K. Kashiwase, M. Okada, Y. Ueda, D. Su, X. L. Niu, A. Q. Song, S. Fujii, Y. Yambe, K. Shiiba, M. Sakakibara, A. Watanabe, T. Wada, Y. Koide, M. Ikeda, H. Toda, K. Hashimoto, R. Terasaka, M. Nakahama, Y. Okada, H. Mizuno, H. Ide, T. Ueno, S. Kogaki, K. Ozono, S. Nanto, C. Statescu, R. Bercea, R. A. Sascau, C. A. Georgescu, E. Athanas, N. Y. Mironov, S. A. Bakalov, E. A. Jarova, E. S. Rodionova, N. A. Mironova, J. Kim, M. S. Ahn, D. C. Han, J. T. L. Choo, C. K. Chen, T. H. Tan, K. K. Ong, R. Kam, A. Curnis, L. Bontempi, G. Coppola, M. Cerini, F. Vassanelli, A. Lipari, F. Gennaro, C. Pagnoni, N. Ashofair, L. D. Cas, V. Gourineni, K.-L. Wong, R. Davoudi, N. Hamid, T. B. Yew, C. C. Keong, T. W. Siong, E. Fuke, H. Shimizu, S. Kimura, K. Hao, R. Watanabe, J.-B. Seo, W.-Y. Chung, M.-A. Kim, Z.-H. Zo, S. Krishinan, N. A. Skuratova, L. M. Belyaeva, M. H. Bae, J. H. Lee, H. S. Lee, D. H. Yang, H. S. Park, Y. Cho, S. C. Chae, J.-E. Jun, L. V. Rychkova, V. V. Dolgikh, L. V. Zurbanova, A. V. Zurbanov, A. Aleksanyan, A. Matevosyan, G. Podosyan, P. Zelveian, H. O. Choi, G.-B. Nam, Y. R. Kim, K. H. Kim, K.-J. Choi, Y.-H. Kim, H. A. P. Pakpahan, D. Wei, T. Qizhu, Y. Xiaofei, G. Kai, F. Siting, H. Ji, A. Sato, Y. Tanabe, Y. Hayashi, T. Yoshida, E. Ito, M. Chinushi, K. Hasegawa, N. Yagihara, K. Iijima, D. Izumi, H. Watanabe, H. Furushima, Y. Aizawa, Y.-x. Dong, J. C. Burnett, H. H. Chen, S. Sandberg, Y. Zhang, P.-S. Chen, Y.-M. Cha, X.-h. Zhou, B.-p. Tang, J.-x. Li, Y.-d. Li, J.-h. Zhang, P. Arsenos, K. Gatzoulis, T. Gialernios, P. Dilaveris, S. Sideris, S. Archontakis, D. Tsiachris, S. Christodoulos, Z. Feng, S. Baogui, L. Li, L. Ming, P. Mohanty, A. B. Hesselson, E. De Ruvo, P. L. Gallagher, M. Minati, L. C. A. Natale, G. F. Tomassoni, T. Gan, B. Tang, G. Xu, J. Hosoda, T. Ishikawa, K. Matsushita, K. Matsumoto, Y. Kimura, M. Miyamoto, T. Sugano, T. Ishigami, K. Uchino, K. Kimura, S. Umemura, T. Kurita, L. Ruan, C. Zhang, S. Cai, N. Liu, Y. Ruan, X. Quan, J. K. Kang, N. Y. Kim, S. H. Park, J. E. Jun, W. H. Park, O. V. Sapelnikov, R. S. Latypov, I. R. Grishin, Y. V. Mareev, M. A. Saidova, R. S. Akchurin, G. Manis, D. Mytas, T. Papafanis, M. V. Papavasileiou, C. Stefanadis, L.-N. Ren, X.-H. Fang, Y.-q. Wang, G.-X. Qi, Q.-x. Zeng, Z.-t. Zheng, J.-q. Zhong, Y.-l. Wang, H.-z. Liu, D.-l. Liu, X.-l. Meng, J.-s. Li, G.-y. Su, J. Wang, W. B. Nicolson, S. Kundu, N. Tyagi, P. D. S. Meatcher, S. Yusuf, M. Jeilan, P. J. Stafford, A. J. Sandilands, I. Loke, G. A. Ng, Y. Solak, E. E. Gul, H. Atalay, T. Abdulhalikov, M. Kayrak, S. Turk, A. V. Pogodina, O. V. Valjavskaja, Y. X. Chen, N. S. Luo, J. F. Wang, S. Zhang, S. Ishimaru, M. Miyakawa, R. Kakinoki, M. Tadokoro, S. Kitani, T. Sugaya, K. Nishimura, T. Igarashi, H. Okabayashi, J. Furuya, Y. Igarashi, K. Igarashi, T. Su, D. Winlaw, R. Chard, I. Nicholson, G. Sholler, K. Lau, Q. Sun, K.-p. Cheng, R. Cheng, W. Hua, J.-l. Pu, C. P. Lim, L. L. Chan, L. W. Teo, B. W. K. Kwok, D. K. L. Sim, D. Moneghini, R. Cestari, H. Al Shurafa, S. Al Ghamdi, A. Al Khadra, A. Agacdiken, I. Yalug, A. Vural, U. Celikyurt, D. Ural, T. Aker, E. Schloss, A. Auricchio, C. Zeng, L. Sterns, F. Farooqi, R. Kamdar, S. Adhya, S. Bayne, T. Jackson, L. Pollock, N. Gall, F. Murgatroyd, Y. Guo, Y. Wang, T. Yang, P. Zhu, H. Liu, Y. Zhao, L. Zhang, W. Gao, M. Gao
Publikováno v:
Europace. 13:i47-i82
Autor:
A. Y. Du, L. W. Teo, T. H. Ng, Wai Kin Chim, V. Ho, M. S. Tay, B.H. Koh, Wee Kiong Choi, C. H. Tung
Publikováno v:
Thin Solid Films. :46-50
We have fabricated trilayer insulator metal–insulator–semiconductor (MIS) structures consisting of hafnium dioxide (HfO 2 ) as the high-κ tunnel dielectric, a germanium (Ge) nanocrystal middle layer formed by sputtering and subsequent rapid ther
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 268:560-563
We explore here the use of an anodic alumina membrane as a mask for the fabrication of highly ordered nanodots. The masks were synthesized using a two-step anodization process of aluminum foils in acid solutions. Masks that contain highly ordered por
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 66:218-223
A metal-insulator-semiconductor device with a tri-layer structure consisting of sputtered silicon dioxide (SiO2) (∼ 50 nm)-evaporated pure germanium (Ge) (2.3 nm)-rapid thermal oxidation (RTO) oxide (5 nm) was fabricated on a p-type silicon (Si) su
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 66:33-38
In this paper, we report the effects of the thickness of the middle layer and the rapid thermal oxide (RTO) layer on the charge storage capability of the trilayer devices. The capacitance versus voltage (C-V) measurements showed that devices with a t
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 84:4385-4387
Trilayer structures, consisting of a rapid thermal oxide (RTO) layer (2.5 or 5 nm thick) grown on silicon, a sputtered Ge middle layer (3–20 nm thick), and a 50-nm-thick sputtered silicon oxide capping layer, exhibit significant penetration of Ge a
Autor:
Wee Kiong Choi, D.A. Antoniadis, A. Y. Du, V. Ho, M. S. Tay, Eugene A. Fitzgerald, Rong Liu, Wai Kin Chim, Andrew T. S. Wee, L. W. Teo, C. H. Tung
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 83:3558-3560
The effect of germanium concentration and the rapid thermal oxide (RTO) layer thickness on the nanocrystal formation and charge storage/retention capability of a trilayer metal–insulator–semiconductor device was studied. We found that the RTO and
Autor:
Wee Kiong Choi, Wai Kin Chim, Eugene A. Fitzgerald, Yong Lei, Dimitri A. Antoniadis, C. M. Moey, V. Ho, M. S. Tay, C. L. Heng, L. W. Teo
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 81:3639-3641
The size of germanium (Ge) nanocrystals in a trilayer metal-insulator-semiconductor memory device was controlled by varying the thickness of the middle (co-sputtered Ge+SiO2) layer. From analyses using transmission electron microscopy and capacitance
Autor:
Dimitri A. Antoniadis, Wai Kin Chim, Wee Kiong Choi, Vivian Ng, L. W. Teo, V. Ho, Eugene A. Fitzgerald, C. L. Heng
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 80:2014-2016
The memory effect of a trilayer structure (rapid thermal oxide/Ge nanocrystals in SiO2/sputtered SiO2) was investigated via capacitance versus voltage (C–V) measurements. The Ge nanocrystals were synthesized by rapid thermal annealing of the cosput
Autor:
Alex See, J. G. Lee, Jinping Liu, Edwin A. Arevalo, Christopher R. Hatem, M. S. Zhou, Sandeep Mehta, L. W. Teo, Naushad Variam, Chung Foong Tan, E. Quek, C-S. Yin, S. Chu, Atul Gupta
Publikováno v:
MRS Proceedings. 1070
We investigated the performance of 65nm pFETs whereby the source and drain extensions (SDE) were implanted with Carborane, (C2B10H12) a novel form of molecular species. The high atomic mass of this molecule (146 a.m.u.) and the number of boron atoms