Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"L. Pillatsch"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
S. Beuer, F. Stumpf, M. Rumler, Lothar Frey, Johann Michler, Mathias Rommel, K. Thomas, L. Pillatsch, Savita Kaliya Perumal Veerapandian
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 365:44-49
In this work, focused ion beam (FIB) milling of different structures is studied and compared for two different electronic materials, i.e., silicon (Si) and silicon carbide (SiC). Results show that the same processing parameters yield different trench
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Applied Surface Science. 282:908-913
The combination of the high-brightness He + /Ne + atomic level ion source with the detection capabilities of secondary ion mass spectrometry (SIMS) opens up the prospect of obtaining chemical information with high lateral resolution and high sensitiv
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 269:1036-1040
The use of electronegative species as primary ions considerably enhances the emission of positive secondary ions in SIMS. Considering furthermore that negative primary ions can be required due to instrumental configurations (e.g. the Cameca NanoSIMS
Publikováno v:
Surface and Interface Analysis. 42:645-648
Dynamic secondary ion mass spectrometry (D–SIMS) is an extremely powerful analysis technique for studying surfaces and thin films. The development of ion sources using electronegative elements is necessary to optimize the analysis of the electropos
Autor:
L. Pillatsch, Tom Wirtz
Publikováno v:
Surface and Interface Analysis. 44:1370-1372
The success of secondary ion mass spectrometry (SIMS) analyses depends largely on the ionization probability of the analyzed elements. The chemical state of the surface changes with the chemical nature and the concentration of implanted ions. The pos
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Microscopy and Microanalysis. 19:354-355
Extended abstract of a paper presented at Microscopy and Microanalysis 2013 in Indianapolis, Indiana, USA, August 4 – August 8, 2013.
Publikováno v:
Microscopy and Microanalysis. 18:812-813
The ORION Helium Ion Microscope (HIM) has become a well-established tool for high-resolution microscopy [1]. It is based on the atomic-sized ALIS gas field ion source, which has a brightness of 4×10 A cm sr. This leads to probe sizes of less than 0.