Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"L. Michael Heglin"'
Publikováno v:
2006 Conference on Lasers and Electro-Optics and 2006 Quantum Electronics and Laser Science Conference.
For future 65 nm and smaller nodes, thermal anneal processes in the ms and mus range are required. Based on laboratory tests using the line scan method, an R&D system has been developed.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::53a59aef10ee6464cd8b3181069b0c8d
https://doi.org/10.1109/cleo.2006.4628853
https://doi.org/10.1109/cleo.2006.4628853
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.