Zobrazeno 1 - 10
of 18
pro vyhledávání: '"L. Jeannerot"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal de Physique IV (Proceedings). 12:37-44
APCVD of boro-phospho silicate glass from mixtures of TEOS, TMB and TMP i has been analysed then modelled in a continuous reactor. A reduced chemical mechanism has been developed and the corresponding rate constants have been identified. The first re
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::25a7f5ab2f422f23ecaff022321cd860
https://doi.org/10.1051/jp4:20020075
https://doi.org/10.1051/jp4:20020075
Publikováno v:
Le Journal de Physique IV. 11:Pr3-149
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::93727e275d9e29a672d5a84fe36546be
https://doi.org/10.1051/jp4:2001318
https://doi.org/10.1051/jp4:2001318
Publikováno v:
Le Journal de Physique IV. :Pr8-149
The deposition of silicon dioxide by Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition using TEOS/ozone chemistry in an industrial linear-injector reactor has been modeled. The objective was to optimize the operating conditions. ESTET, a French commerci
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::fb914f949207f099e9f4bcd58f7fcc55
https://doi.org/10.1051/jp4:1999818
https://doi.org/10.1051/jp4:1999818
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 10:3076-3085
Real microelectronic structures made of W/Ti layers and patterned with a photoresist mask have been etched successively in SF6/N2 and SiCl4/Cl2 plasmas with a triode etching system. The etched samples have been analyzed after different steps of the p
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::752ae19f6c8e80999c7519bff7c0af62
https://doi.org/10.1116/1.577868
https://doi.org/10.1116/1.577868
Autor:
S. Coletti, J.P. Couderc, L. Jeannerot, Brigitte Caussat, C. Artufel, Olivier Simonin, J.-P. Nieto
The deposition of silicon dioxide in an Atmospheric Pressure Chemical Vapour Deposition reactor from TEOS (tetraethoxysilane) and ozone mixtures has been studied and modelled, with the objective to optimise the productivity of an industrial equipment
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3a484e49692aadf6fcdf55bce1c18edc
https://doi.org/10.1016/s1570-7946(00)80066-8
https://doi.org/10.1016/s1570-7946(00)80066-8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Kniha
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.