Zobrazeno 1 - 10
of 208
pro vyhledávání: '"L. Bruchhaus"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
D. Lucot, Christian Ulysse, E. Bourhis, Juan Pelta, A. Morin, Ralf Jede, Abdelkarim Ouerghi, Loïc Auvray, Gilles Patriarche, L. Bruchhaus, Ali Madouri, Jacques Gierak
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 97:311-316
In this article we report on carving nanopores into suspended graphene sheets using a finely focused and shaped gallium ion beam. We show that in addition to serving as a nearly ideal substrate for high resolution patterning, suspended graphene can b
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::468eebbadbd7ceffc3e50a2a3a82328f
https://doi.org/10.1016/j.mee.2012.02.029
https://doi.org/10.1016/j.mee.2012.02.029
Autor:
Maxime G. Lemaitre, Ralf Jede, Joel Fridmann, Ryo Mimura, Jason E. Sanabia, S. Bauerdick, Brent P. Gila, Bill R. Appleton, Sefaattin Tongay, Paul Mazarov, L. Bruchhaus
Publikováno v:
Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms. 272:153-157
Materials modification and nanofabrication results are reported from the use of a new multi-ion beam lithography and processing system developed by the University of Florida (UF) and Raith Inc. The UF system utilizes liquid metal alloy ion sources an
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::bc6e0eff5782283a1e1531050c215ea5
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2011.01.054
https://doi.org/10.1016/j.nimb.2011.01.054
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B 36(2018)6, 06J101-1-06J101-6
In this article, the authors review, compare, and discuss the characteristics and applicative potential of a variety of nongallium ion liquid metal ion sources they have developed and successfully applied to nanopatterning. These sources allow genera
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::7a5b85edb7942761532c0b3dc581c527
https://doi.org/10.1116/1.5047150
https://doi.org/10.1116/1.5047150
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Christian Ulysse, Gilles Patriarche, Jacques Gierak, Ali Madouri, Ralf Jede, B. Schiedt, D. Lucot, E. Bourhis, Loïc Auvray, L. Bruchhaus, Xavier Lafosse
Publikováno v:
Microscopy Today. 17:14-17
There is a solid consensus that new methods of structure fabrication, placement, and organization within the sub-10-nm resolution gap are urgently required to meet existing challenges in condensed matter, semiconductors, and biotechnologies. Standard
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::a0938c66279e432700ba09eec3e95af7
https://doi.org/10.1017/s1551929509000479
https://doi.org/10.1017/s1551929509000479
Autor:
Jacques Gierak, Anne-Laure Biance, Ali Madouri, S. Bauerdick, Gilles Patriarche, E. Bourhis, B. Schiedt, Giancarlo Faini, Loïc Auvray, Ralf Jede, L. Bruchhaus
Publikováno v:
Ultramicroscopy. 109:457-462
Decisive advances in the field of nanosciences and nanotechnologies are intimately related to the development of new instruments and of related writing schemes and methodologies. Therefore we have recently proposed the exploitation of the nano-struct
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::c10471a55d71e713bb09821a5be4577a
https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2008.09.007
https://doi.org/10.1016/j.ultramic.2008.09.007
Autor:
Ralf Jede, Jaume Esteve, L. Bruchhaus, Francesc Pérez-Murano, Cristina Martin, Maria Villarroya, Nuria Barniol, E. Bourhis, Jacques Gierak
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. 84:1215-1218
In this paper we present a different approach using a focused ion beam (FIB) as lithographic tool to define nanometric width gaps, which are then transferred to a silicon substrate by reactive ion etching (RIE). This process has been developed to fit
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::377b7faa57280e34cea48995fb276bd1
https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.01.074
https://doi.org/10.1016/j.mee.2007.01.074