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pro vyhledávání: '"Kupferoxide"'
Publikováno v:
Chemischer Informationsdienst. 3
Autor:
Dhakal, Dileep, Waechtler, Thomas, E. Schulz, Stefan, Gessner, Thomas, Lang, Heinrich, Mothes, Robert, Tuchscherer, Andre
This article has been published online on 21st May 2014, in Journal of Vacuum Science & Technology A: Vac (Vol.32, Issue 4): http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvsta/32/4/10.1116/1.4878815?aemail=author DOI: 10.1116/1.4878815 This article m
Autor:
Rau, Julia S.
Häufig erfahren metallische Oberflächen, die tribologischer Beanspruchung ausgesetzt sind, Änderungen der chemischen Zusammensetzung, welche oft Vorbote und Ursache von Versagen technischer Systeme sein können. Die elementaren Mechanismen tribolo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::63fd85db5b70cd1a2bfc017ce6209127
Autor:
Waechtler, Thomas, Roth, Nina, Mothes, Robert, Schulze, Steffen, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas, Lang, Heinrich, Hietschold, Michael
Publikováno v:
ECS Transactions, Vol. 25, No. 4, pp. 277-287 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3205062
The atomic layer deposition (ALD) of copper oxide films from [(nBu3P)2Cu(acac)] and wet oxygen on SiO2 and TaN has been studied in detail by spectroscopic ellipsometry and atomic force microscopy. The results suggest island growth on SiO2, along with
Autor:
Waechtler, Thomas, Oswald, Steffen, Roth, Nina, Jakob, Alexander, Lang, Heinrich, Ecke, Ramona, Schulz, Stefan E., Gessner, Thomas, Moskvinova, Anastasia, Schulze, Steffen, Hietschold, Michael
Publikováno v:
Journal of The Electrochemical Society, Vol. 156, No. 6, pp. H453-H459 (2009); Digital Object Identifier (DOI): 10.1149/1.3110842
The thermal atomic layer deposition (ALD) of copper oxide films from the non-fluorinated yet liquid precursor bis(tri-n-butylphosphane)copper(I)acetylacetonate, [(nBu3P)2Cu(acac)], and wet O2 on Ta, TaN, Ru and SiO2 substrates at temperatures of < 16
Autor:
R. Scholder
Publikováno v:
Berichte der Bunsengesellschaft für physikalische Chemie. 68:522-522
Autor:
E. Wiberg
Publikováno v:
Angewandte Chemie. 76:997-997
Autor:
Robert Englman
Publikováno v:
Israel Journal of Chemistry. 2:174-174
Autor:
Chen, Ying-Hsuan (M. Sc.)
2-Mercaptobenzothiazol (MBT) ist einer der wirksamsten Korrosionsinhibitoren für Cu. Es reagiert mit Cu unter Bildung einer Schicht, die die Oberfläche schützt. Um offene Fragen zur Struktur der passivierenden Schicht zu untersuchen, wurde in dies
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od______3579::58abbce4ea2d1568a850f5d91b6d4571
https://hss-opus.ub.ruhr-uni-bochum.de/opus4/files/5907/diss.pdf
https://hss-opus.ub.ruhr-uni-bochum.de/opus4/files/5907/diss.pdf