Zobrazeno 1 - 10 of 17 pro vyhledávání: '"Kuper, F. G."'
1
Akademický článek
Effects of fluorine implantation on the kinetics of dry oxidation of silicon.
Autor: Kuper, F. G., De Hosson, J. Th. M., Verwey, J. F.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/1/1986, Vol. 60 Issue 3, p985, 6p, 1 Diagram, 1 Chart, 3 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Enhanced electron-beam-induced current contrast of grain boundaries in silicon-on-insulator films.
Autor: Kuper, F. G., De Hosson, J. Th. M., Verwey, J. F.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 6/15/1987, Vol. 61 Issue 12, p5475, 3p, 5 Black and White Photographs, 1 Diagram
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Density of oxidation-induced stacking faults in damaged silicon.
Autor: Kuper, F. G., De Hosson, J. Th. M., Verwey, J. F.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 8/15/1986, Vol. 60 Issue 4, p1530, 3p, 2 Black and White Photographs, 2 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
5
Kniha
Reliability Practice.
Autor: Gladwell, G. M. L., Zhang, G. Q., Driel, W. D., Fan, X. J., Kuper, F. G.
Publikováno v: Mechanics of Microelectronics; 2006, p35-63, 29p
Zobrazit plný text záznamu
6
Conference
High Voltage Effects in Top Gate Amorphous Silicon Thin Film Transistors.
Autor: Tosic, N., Kuper, F. G., Mouthaan, T.
Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 2000, Vol. 621 Issue 1, p1-6, 6p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Periodical
The time-voltage trade-off for ESD damage threshold in amorphous silicon hydrogenated thin-film transistors
Autor: Golo, N. Tosic, Wal, S. van der, Kuper, F. G., Mouthaan, T.
Publikováno v: Microelectronics Reliability; 2001, Vol. 41 p1391-1396, 6p
Zobrazit plný text záznamu
10
Periodical
Tail bit implications in advanced 2 transistors-flash memory device reliability
Autor: Scarpa, A., Tao, G., Dijkstra, J., Kuper, F. G.
Publikováno v: Microelectronic Engineering; 2001, Vol. 59 Issue: 1 p183-188, 6p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje