Zobrazeno 1 - 10
of 24
pro vyhledávání: '"Kuhs, Jakob"'
Autor:
Petit, Robin R., Ozdemir, Resul, Van Avermaet, Hannes, Giordano, Luca, Kuhs, Jakob, Werbrouck, Andreas, Filez, Matthias, Dendooven, Jolien, Hens, Zeger, Smet, Philippe F., Detavernier, Christophe
Publikováno v:
ACS Applied Materials & Interfaces; 11/20/2024, Vol. 16 Issue 46, p63989-64001, 13p
Autor:
Petit, Robin, Zawacka, Natalia Klaudia, Kuhs, Jakob, Smet, Philippe, Hens, Zeger, Detavernier, Christophe
Publikováno v:
AVS ALD/ALE 2020, Abstracts
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______330::e84e309c03a9e80283f1ecfc2a29088e
https://biblio.ugent.be/publication/8772670
https://biblio.ugent.be/publication/8772670
Autor:
Zawacka, Natalia Klaudia, Petit, Robin, Kuhs, Jakob, Smet, Philippe, Detavernier, Christophe, Hens, Zeger
Publikováno v:
AVS 20th International Conference on Atomic Layer Deposition (ALD 2020), Abstracts
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______330::c8d8117405ffe54ff2a5e4f81996f13b
https://biblio.ugent.be/publication/8768412
https://biblio.ugent.be/publication/8768412
Publikováno v:
2019 Spring Meeting of the European Materials Research Society (E-MRS), Abstracts
Inorganic and Environmental Materials, International symposium, Abstracts
Inorganic and Environmental Materials, International symposium, Abstracts
We propose two-layered thin film architecture and its fabrication method based on industry-compatible processing techniques. The strategic approach includes a combination of polymer embedded quantum dots (QD) film coated with an additional oxide laye
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::7cab867260218a69124bb1dba89d2904
https://hdl.handle.net/1854/LU-8768397
https://hdl.handle.net/1854/LU-8768397
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Ahvenniemi, Esko, Akbashev, Andrew R., Ali, Saima, Bechelany, Mikhael, Berdova, Maria, Boyadjiev, Stefan, Cameron, David C., Chen, Rong, Chubarov, Mikhail, Cremers, Veronique, Devi, Anjana, Drozd, Viktor, Elnikova, Liliya, Gottardi, Gloria, Grigoras, Kestutis, Hausmann, Dennis M., Hwang, Cheol Seong, Jen, Shih-Hui, Kallio, Tanja, Kanervo, Jaana, Khmelnitskiy, Ivan, Kim, Do Han, Klibanov, Lev, Koshtyal, Yury, Krause, A. Outi I., Kuhs, Jakob, Kaerkkaenen, Irina, Kaariainen, Marja-Leena, Kaariainen, Tommi, Lamagna, Luca, Lapicki, Adam A., Leskela, Markku, Lipsanen, Harri, Lyytinen, Jussi, Malkov, Anatoly, Malygin, Anatoly, Mennad, Abdelkader, Militzer, Christian, Molarius, Jyrki, Norek, Malgorzata, Ozgit-Akgun, Cagla, Panov, Mikhail, Pedersen, Henrik, Piallat, Fabien, Popov, Georgi, Puurunen, Riikka L., Rampelberg, Geert, Ras, Robin H. A., Rauwel, Erwan, Roozeboom, Fred, Sajavaara, Timo, Salami, Hossein, Savin, Hele, Schneider, Nathanaelle, Seidel, Thomas E., Sundqvist, Jonas, Suyatin, Dmitry B., Törndahl, Tobias, van Ommen, J. Ruud, Wiemer, Claudia, Ylivaara, Oili M. E., Yurkevich, Oksana
Atomic layer deposition (ALD), a gas-phase thin film deposition technique based on repeated, self-terminating gas-solid reactions, has become the method of choice in semiconductor manufacturing and many other technological areas for depositing thin c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::b61ad2530953894e15e6f0bc01534da0
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
http://urn.kb.se/resolve?urn=urn:nbn:se:uu:diva-316208
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.