Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"Kubelbeck, A."'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
1997 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings (Cat. No.97CH36023).
In order to optimize HF last processing in situ rinsing is frequently discussed to avoid the transition through the air liquid interface. In this work a special tank design for high efficient rinsing post HF wafer treatment was designed, characterize
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::7b348fc1117767ecb00f3abe742e1f3f
https://doi.org/10.1109/issm.1997.664633
https://doi.org/10.1109/issm.1997.664633
Publikováno v:
1997 IEEE International Symposium on Semiconductor Manufacturing Conference Proceedings (Cat No97CH36023); 1997, pP95-P98, 4p
Autor:
Kubelbeck, William John
Thesis--Catholic University of America, 1918.
Vita. "Sources and bibliography": p. [122]-124.
Vita. "Sources and bibliography": p. [122]-124.
Externí odkaz:
http://catalog.hathitrust.org/api/volumes/oclc/697842.html
